[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201910925071.5 | 申请日: | 2019-09-27 |
公开(公告)号: | CN110957359A | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 徐继兴;杨世海;张志宇;蔡庆威;程冠伦 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/423 | 分类号: | H01L29/423;H01L29/78 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李琛;黄艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【权利要求书】:
1.一种半导体装置,包括:
一基板;
一介电层,设置在上述基板的一部分上方;
一铁电结构,设置在上述介电层上方,其中在上述铁电结构内,上述铁电结构的一材料组成随着上述铁电结构内的一高度而变化;以及
一栅极电极,设置在上述铁电结构上方。
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