[发明专利]一种直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置

权利要求书

1.一种直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，包括装置主体，所述装置主体内设有封闭廊道，所述封闭廊道的上游设置有等离子体活化单元，所述封闭廊道的下游设置有直接氟化单元，所述等离子体活化单元和所述直接氟化单元之间密封连接；

所述直接氟化单元为平行平板型结构，包括两个平行设置的长方体气体缓冲腔，两个所述气体缓冲腔相对的面上均设有若干均匀分布的小孔，两个所述气体缓冲腔远离所述小孔的面上均设有一个进气口。

2.根据权利要求1所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述封闭廊道为四周密闭两端开口的长方体型廊道，所述廊道顶部设置有运动导轨，所述导轨上设有运动滑块，所述运动滑块上设有夹持元件，所述廊道中间设有分割软帘，使得所述等离子体活化单元和所述直接氟化单元之间形成密封连接，所述封闭廊道的两端开口处也均设有分割软帘。

3.根据权利要求1所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，两个所述气体缓冲腔的间距为5mm-10mm。

4.根据权利要求1所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述小孔的直径为0.5mm-1.0mm。

5.根据权利要求1所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述直接氟化单元还设有负压废气回收系统。

6.根据权利要求1-5任一项所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述等离子体活化单元为平行平板介质阻挡型结构，包括覆盖阻挡介质的高压电极和接地电极，所述高压电极和所述接地电极的间距为5mm-10mm，电极长度为5cm-50cm。

7.根据权利要求1-5任一项所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述等离子体活化单元为沿面平板型介质阻挡三明治结构，包括高压电极、阻挡介质和接地筛网电极紧密贴合，构成三明治结构单元，两个所述三明治结构单元平行设置，且两个所述接地筛网电极相对面设置，形成平行处理通道，所述平行处理通道的间隙为5mm-10mm。

8.根据权利要求1-5任一项所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述等离子体活化单元为电晕介质阻挡型结构，包括连接高压的针电极阵列和纳孔结构的阻挡介质构成一个放电单元，两个所述放电单元平行设置，且两个纳孔结构的阻挡介质相对面设置，形成平板型的处理通道，所述处理通道的间隙为5mm-10mm。

9.根据权利要求1-5任一项所述的直接氟化协同等离子体对材料表面进行改性的装置，其特征在于，所述等离子体活化单元为射流型结构。