[发明专利]用于消毒流体的装置的设备和装置

权利要求书

1.一种用于消毒流体的装置的设备，具有：

-容器(1)；

-反应器空间(2)，该反应器空间布置在容器(1)中并且被配置成接收待消毒的流体，其中该流体能够经过反应器空间(2)的入口到达反应器空间(2)并且能够经过反应器空间(2)的出口离开反应器空间(2)；以及

-紫外线放射装置(9)，该紫外线放射装置具有发光的紫外线二极管(6)，利用该紫外线二极管能够将紫外光线照射到反应器空间(2)中以消毒流体；

其中反应器空间(2)被形成在容器(1)中，所述容器具有在由容器壁(5)围绕的流管(4)中的流路(3)，并且发光的紫外线二极管(6)被布置成分布在沿流路(3)的流管(4)区域内的容器壁(5)上，以便在流路(3)上照射紫外光线。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，发光的紫外线二极管(6)的至少一部分被布置成在容器壁(5)上形成二极管(7)的至少一个线布置。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，二极管(7)的线布置沿着容器壁(5)的凹槽延伸。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的设备，其特征在于，容器壁(5)上的发光的紫外线二极管(6)被布置成分布在围绕流路(3)的流管(4)区域中。

5.根据前述权利要求中至少一项所述的设备，其特征在于，布置在反应器空间(2)外部的冷却装置(10)与发光的紫外线二极管(6)中的每个紫外线二极管相关联，该冷却装置(10)被配置成在运行期间冷却发光的紫外线二极管(6)。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，冷却装置(10)具有从所述容器延伸离开的冷却元件。

7.根据权利要求5或6所述的设备，其特征在于，冷却装置(10)具有冷却剂通道，冷却剂能够流动通过该冷却剂通道以用于在运行期间进行冷却。

8.根据权利要求5至7中至少一项所述的设备，其特征在于，冷却装置(10)被形成为用于发光的紫外线二极管(6)中的至少两个紫外线二极管的共同的冷却装置。

9.根据前述权利要求中至少一项所述的设备，其特征在于，容器壁(5)由至少在表面侧至少部分地漫反射紫外光线的材料制成。

10.根据前述权利要求中至少一项所述的设备，其特征在于，容器(1)可以设计成模块化结构，使得流管(4)由容器模块(13、14)组成，在所述容器模块中至少一个发光的紫外线二极管(6)布置在具有孔的模块本体上，紫外线二极管在运行期间照射到所述孔中，并且复合的容器模块(13、14)的孔一起形成具有流路(3)的流管(4)。

11.一种用于消毒流体的装置，所述装置具有根据前述权利要求中至少一项所述的设备。