[发明专利]一种密封容器的拼接侧壁结构及具有拼接侧壁结构的密封容器有效

专利信息
申请号: 201910929402.2 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110683159B 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 付金煜;祝翱·吉马雷斯·达·科斯塔 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: B65D6/24 分类号: B65D6/24;B65D53/00
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100049 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 密封 容器 拼接 侧壁 结构 具有
【权利要求书】:

1.一种密封容器的拼接侧壁结构,其特征在于,包括上下两层非封闭环和一全高度侧壁分体(200),上下两层非封闭环的开口分别与该全高度侧壁分体(200)密封连接构成拼接侧壁(2);其中,每一层非封闭环由若干分体拼接构成,每一分体均在顶部或底部开槽,同一层各分体的开槽拼接后形成该层非封闭环的周向槽,该周向槽内设有密封条,上下两层非封闭环之间通过周向槽内的密封条密封连接,各分体的至少一侧设有一凹台或两侧分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成拼接槽,拼接槽内设有密封条,相邻分体通过密封条和单层T型径向压块(202)密封连接;该全高度侧壁分体(200)的至少一侧设有一凹台或两侧分别分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成一全高拼接槽,该全高度侧壁分体(200)通过该全高拼接槽内的密封条和全高度T型径向压块(201)与相邻分体密封连接。

2.如权利要求1所述的拼接侧壁结构,其特征在于,周向槽在靠近拼接槽的开口一侧的边缘距离拼接侧壁(2)在该侧的边缘距离为a,周向槽的宽度为2b,拼接槽的深度为a+b+h,h为拼接槽中密封条压缩后的厚度的1/2。

3.如权利要求1或2所述的拼接侧壁结构,其特征在于,所述拼接槽为纵向槽,即所述拼接槽与所述周向槽垂直相交,拼接槽的开口朝向拼接侧壁(2)的径向。

4.如权利要求1或2所述的拼接侧壁结构,其特征在于,全高度T型径向压块(201)与周向槽内的密封条对接处设有凹台,使凹面与周向槽的侧面平齐相切;单层T型径向压块(202)与周向槽内的密封条对接处设有凹台,使凹面与周向槽的侧面平齐相切。

5.一种密封容器的拼接侧壁结构,其特征在于,包括若干层封闭环,每一层封闭环由若干分体拼接构成,每一分体均在顶部或底部开槽,同一层各分体的开槽拼接后形成该层封闭环的周向槽,该周向槽内设有密封条,相邻两层封闭环之间通过周向槽内的密封条密封连接;各分体的至少一侧设有一凹台或两侧分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成拼接槽,拼接槽内设有密封条,相邻分体通过密封条和单层T型径向压块(202)密封连接。

6.一种密封容器的拼接侧壁结构,其特征在于,包括多层非封闭环和一全高度侧壁分体(200),各层非封闭环的开口分别与该全高度侧壁分体(200)密封连接构成拼接侧壁(2);其中,每一层非封闭环由若干分体拼接构成,每一分体均在顶部或底部开槽,同一层各分体的开槽拼接后形成该层非封闭环的周向槽,该周向槽内设有密封条,相邻层非封闭环之间通过周向槽内的密封条密封连接;各分体的至少一侧设有一凹台或两侧分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成拼接槽,拼接槽内设有密封条,相邻分体通过密封条和单层T型径向压块(202)密封连接;该全高度侧壁分体(200)的至少一侧设有一凹台或两侧分别分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成一全高拼接槽,该全高度侧壁分体(200)通过该全高拼接槽内的密封条和全高度T型径向压块(201)与相邻分体密封连接。

7.一种密封容器的拼接侧壁结构,其特征在于,包括一层非封闭环和一全高度侧壁分体(200),非封闭环的开口分别与该全高度侧壁分体(200)密封连接构成拼接侧壁(2);其中,非封闭环由若干分体拼接构成,每一分体均在顶部或底部开槽,各分体的开槽拼接后形成非封闭环的周向槽,各分体的至少一侧设有一凹台或两侧分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成拼接槽,拼接槽内设有密封条,相邻分体通过密封条和单层T型径向压块(202)密封连接;该全高度侧壁分体(200)的至少一侧设有一凹台或两侧分别分别设有一凹台,用于与相邻分体拼接时形成一全高拼接槽,该全高度侧壁分体(200)通过该全高拼接槽内的密封条和全高度径T型径向压块(201)与相邻分体密封连接。

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