[发明专利]一种高荧光纳米荧光素有机硅点及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201910929826.9 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110724267A 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 熊维伟;郑芬芬;姚海洋;王敬敬;陈佩雅;孙莎莎;袁爱华;吴王聪 申请(专利权)人: 江苏科技大学
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;C09K11/06;B82Y40/00;G01N21/64
代理公司: 32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 代理人: 孙斌
地址: 212008 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 高荧光 纳米荧光 机硅 制备 细胞成像 制备方法和应用 荧光量子产率 形貌 硅烷化试剂 生物相容性 荧光标记物 荧光稳定性 激发波长 荧光光谱 荧光光学 荧光漂白 荧光探针 制备合成 硅纳米 摩尔比 荧光素 产率 多色 红移 均一 应用 合成 发射 调控
【权利要求书】:

1.一种高荧光纳米荧光素有机硅点,其特征在于,由荧光素和硅烷化试剂通过摩尔比为1:2-2:1反应获得。

2.根据权利要求1所述的高荧光纳米荧光素有机硅点,其特征在于,所述硅烷化试剂为二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(beta-氨乙基)-gama-氨丙基三甲氧基硅烷。

3.根据权利要求1或2所述的高荧光纳米荧光素有机硅点,其特征在于,所述高荧光纳米荧光素有机硅点为无定形的纳米颗粒。

4.根据权利要求1或2所述的高荧光纳米荧光素有机硅点,其特征在于,所述高荧光纳米荧光素有机硅点直径在2nm-20nm之间。

5.根据权利要求1或2所述的高荧光纳米荧光素有机硅点,其特征在于,所述高荧光纳米荧光素有机硅点具有荧光性能,在450nm—550nm波长附近具有强的荧光发射峰。

6.一种权利要求1所述的高荧光纳米荧光素有机硅点的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)按比例加入硅烷化试剂和荧光素于水溶液中,充分混合溶解,一步水热法加热反应,然后停止加热,冷却,取出反应溶液透析掉未反应物,最后再将低速离心去掉沉淀,得到高荧光纳米荧光素有机硅点水溶液;

(2)将步骤(1)中高荧光纳米荧光素有机硅点水溶液冷冻干燥获得产物的固体粉末为高荧光纳米荧光素有机硅点。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的一步水热法加热反应优选的反应温度140-200℃,时间为2-12小时。

8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的取出反应溶液透析掉未反应物为取出反应溶液转移至透析膜,透析24-36小时。

9.一种权利要求1所述的高荧光纳米荧光素有机硅点在制备生物荧光探针中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用,其特征在于,所述应用包括在生物荧光成像领域制成荧光探针,该荧光探针具有良好的生物相容性和稳定的抗光致荧光漂白。

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