[发明专利]基板仓库、基板处理系统和基板检查方法在审
申请号: | 201910931482.5 | 申请日: | 2019-09-29 |
公开(公告)号: | CN111009485A | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 森拓也 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/66 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 仓库 处理 系统 检查 方法 | ||
1.一种基板仓库,用于保管保存有基板的容器,所述基板仓库具备:
搬入部,其用于在从外部搬入所述容器时载置该容器;
搬出部,其用于在向外部搬出所述容器时载置该容器;
等待部,其用于载置等待向外部搬出的所述容器;
功能部,其包括检查部,所述检查部进行检查所述基板的处理;
交接部,其用于在所述功能部与所述容器之间交接基板时载置该容器;
容器搬送机构,其用于在该基板仓库内搬送所述容器;以及
基板搬送机构,其用于在所述功能部与载置于所述交接部的所述容器之间搬送基板。
2.根据权利要求1所述的基板仓库,其特征在于,
所述检查部具有探测部,所述探测部探测作为所述基板的方向的基准的基准部位,
该基板仓库具备控制部,所述控制部控制所述检查部和所述基板搬送机构,以执行在所述容器内将所述基板的方向设为规定的方向的处理。
3.根据权利要求1或2所述的基板仓库,其特征在于,
所述功能部包括以下各部中的至少任一个:翻转部,其进行使所述基板的表背面翻转的处理;表面清洗部,其进行清洗所述基板的表面的处理;背面清洗部,其进行清洗所述基板的背面的处理;周缘清洗部,其清洗所述基板的周缘部;以及周缘研磨部,其研磨所述基板的周缘部。
4.根据权利要求1或2所述的基板仓库,其特征在于,
具备控制部,所述控制部基于从设置于外部的主控制装置接收到的、应该执行的处理的识别信息来控制所述功能部和所述基板搬送机构,以执行该应该执行的处理。
5.根据权利要求1或2所述的基板仓库,其特征在于,
所述基板仓库具备控制部,所述控制部针对每个所述容器,从设置于外部的主控制装置接收容许对该容器执行处理的容许时间的信息,基于所述容许时间的信息来决定应该执行的处理,控制所述功能部和所述基板搬送机构,以执行决定出的应该执行的处理。
6.一种基板处理系统,具有:
根据权利要求1至5中的任一项所述的基板仓库;
处理装置,其对所述基板进行规定的处理;以及
控制装置,其控制所述基板仓库和所述处理装置。
7.一种基板检查方法,用于检查基板,
所述基板被保存于容器且被保管于基板仓库,
所述基板仓库具备:
搬入部,其用于在从外部搬入所述容器时载置该容器;
搬出部,其用于在向外部搬出所述容器时载置该容器;
等待部,其用于载置等待向外部搬出的所述容器;
功能部,其包括检查部,所述检查部进行检查所述基板的处理;
交接部,其用于在所述功能部与所述容器之间交接基板时载置该容器;
容器搬送机构,其用于在该基板仓库内搬送所述容器;以及
基板搬送机构,其用于在所述功能部与载置于所述交接部的所述容器之间搬送基板,
其中,在从将所述容器搬入到所述基板仓库起至将该容器搬出所述基板仓库为止的期间,通过所述检查部检查该容器内的基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造