[发明专利]子掩膜版以及掩膜版有效

专利信息
申请号: 201910932119.5 申请日: 2019-09-29
公开(公告)号: CN110484864B 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 陈腾;陈奎;孟维欣;李杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 子掩膜版 以及 掩膜版
【说明书】:

发明实施例提供一种子掩膜版以及掩膜版,该子掩膜版包括衬底以及设置在所述衬底上的掩膜图案,所述掩膜图案包括至少一个与所述子掩膜版的拉伸方向朝向不同的第一角部,以及至少一个与所述子掩膜版的拉伸方向朝向相同的第二角部,所述第一角部为圆角,所述第二角部为倒角;该子掩膜版能够降低张网过程中的褶皱高度,提高子掩膜版的蒸镀效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种子掩膜版以及掩膜版。

背景技术

有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Diode,OLED)是未来显示产品的发展趋势,具有视角宽、响应速度快、亮度高、对比度高、色彩鲜艳、重量轻、厚度薄、功耗低等一系列优点。成为了继LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)之后的下一代主流显示技术。

目前,真空热蒸镀是制备OLED器件的一种行之有效的方法,它将加热蒸发的材料分子穿过高精度金属掩膜版(Fine Metal Mask,FMM)的开口沉积到背板的相应位置处,以获得所需分辨率的显示面板。

高精度金属掩膜版(Fine Metal Mask,FMM)作为蒸镀OLED发光材料的掩膜版,已经得到广泛地应用。在将其放入到蒸镀机之前,必须对其进行张网,以防重力作用导致的变形,进一步造成FMM的对位变差,阴影增大,引起混色。然而,FMM在张网的过程中会不可避免出现一些褶皱,特别是当FMM长度变长,张网的拉伸力增大,褶皱的高度就会增高,从而导致FMM的平坦度降低,影响蒸镀的效果。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是,提供一种子掩膜版以及掩膜版,该子掩膜版能够降低张网过程中的褶皱高度,提高子掩膜版的蒸镀效果。

为了解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种子掩膜版,包括衬底以及设置在所述衬底上的掩膜图案,所述掩膜图案包括至少一个与所述子掩膜版的拉伸方向朝向不同的第一角部,以及至少一个与所述子掩膜版的拉伸方向朝向相同的第二角部,所述第一角部为圆角,所述第二角部为倒角。

可选地,所述掩膜图案包括至少两个所述第一角部,所述掩膜图案为轴对称图形,所述掩膜图案的对称轴与所述子掩膜版拉伸方向平行,所述第一角部对称设置于所述对称轴的两侧。

可选地,所述掩膜图案为多边形。

可选地,所述掩膜图案为六边形、三角形或菱形。

可选地,所述掩膜图案为轴对称六边形,包括两个分别位于所述掩膜图案顶端和底端的所述第二角部以及四个对称设置于所述掩膜图案对称轴两侧的所述第一角部。

可选地,所述第一角部和所述第二角部均为120°。

可选地,所述掩膜图案包括相对设置并与所述子掩膜版的拉伸方向平行的第一边和第二边,所述第一边与所述第二边之间的距离为L,所述第一角部的半径为R,所述L与所述R满足关系式:R/L=1/8~1/4。

可选地,所述衬底包括图案区以及围绕所述图案区四周的封闭区,所述图案区中设置有至少一个所述掩膜图案。

可选地,所述衬底还包括位于所述图案区相对两侧的夹持区。

本发明实施例还提供了一种掩膜版,包括前述的子掩膜版。

本发明提供了一种子掩膜版以及掩膜版,通过将掩膜图案中与子掩膜版的拉伸方向朝向不同的第一角部设计为圆角,将掩膜图案中与子掩膜版的拉伸方向朝向相同的第二角部设计为倒角,以降低张网过程中子掩膜版产生褶皱的高度,从而提高子掩膜版的蒸镀效果。

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