[发明专利]基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台及分析方法

权利要求书

1.一种基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台，其特征在于，包括双喷雾排斥反应器(Dual-spray Repulsion Reactor，DRR)、高压直流电源、高分辨质谱仪，所述双喷雾排斥反应器由两个双液流混合单喷雾芯片组成、或者是一枚由两个双液流混合单喷雾组成的集成芯片，所述双液流混合单喷雾的结构包括反应物通道、ESI电喷雾液通道和电喷雾尖端，在两个电喷雾尖端上分别连接高压直流电源的正负极，电喷雾尖端形成的电喷雾进入高分辨质谱仪检测。

2.根据权利要求1中所述的基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台，其特征在于，采用注射器针头作为所述双液流混合单喷雾芯片的电喷雾尖端。

3.根据权利要求1中所述的基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台，其特征在于，所述两个电喷雾尖端的夹角为20°～90°，水平距离为0mm～15mm。

4.根据权利要求1中所述的基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台，其特征在于，所述两个电喷雾尖端连线的中点与质谱进样口的距离5～15mm。

5.根据权利要求1中所述的基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台，其特征在于，在所述两个电喷雾尖端上分别夹上与高压直流电源相连的电极夹。

6.采用权利要求1～5任一所述基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台进行质谱分析的方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)配置反应物A溶液、反应物B溶液、电解质溶液；

(2)将反应物A溶液、反应物B溶液与电解质溶液分别通入到反应物通道和ESI电喷雾液通道内，反应物A和反应物B分别在各自通道内与电解质溶液混合均匀得到混合液；

(3)混合液在加载了高压直流电的电喷雾尖端处形成两股电喷雾，在两股电喷雾形成的泰勒锥束重叠界面处，化合物A和化合物B发生化学反应生成产物C，产物C随反应物A和反应物B直接进入到高分辨质谱电喷雾电离源的进样口，实现对双喷雾排斥反应产生的反应物离子的高分辨率质谱检测。

7.根据权利要求6所述的质谱分析方法，其特征在于，所述高压直流电的电压为0.5～2.0KV。

8.根据权利要求6所述的质谱分析方法，其特征在于，反应物通道中反应物A溶液与电解质溶液的流速为0.1～2.0μL/min，反应物B溶液与电解质溶液的流速为0.1～2.0μL/min。

9.根据权利要求6所述的质谱分析方法，其特征在于，可在线控制反应物通道和ESI电喷雾液通道中的溶液及其流速配比。