[发明专利]测定装置及精度管理方法

权利要求书

1.一种测定装置，其具备：

对用于进行精度管理的管理试样进行测定的测定部；

显示部；

在所述显示部显示用于设定在所述精度管理中使用的评价基准的输入界面的处理部；

其中，所述处理部基于所述管理试样的测定结果及所述评价基准在显示部显示检查项目的精度管理结果。

2.根据权利要求1所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准按照检查项目设定。

3.根据权利要求1所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准由用户设定。

4.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

还具备以所述处理部能够读出的格式存储所述评价基准的存储部。

5.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

还具备用于在所述输入界面设定所述评价基准的输入部。

6.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

所述检查项目与测定对象细胞相对应。

7.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

所述检查项目包括1个以上的测定项目，所述评价基准分别针对各个测定项目设定。

8.根据权利要求7所述的测定装置，其特征在于：

所述测定项目包括与由不同的受光元件单独地检测的2种以上的检测对象的靶分子相对应的检测项目。

9.根据权利要求8所述的测定装置，其特征在于：

靶分子是抗原。

10.根据权利要求8或9所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准基于测定所述管理试样时的各受光元件的光的强度决定。

11.根据权利要求8或9所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准基于由2个测定项目的光的强度展开的粒子分布图设定。

12.根据权利要求10所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准基于一定门内设定。

13.根据权利要求12所述的测定装置，其特征在于：

所述门由用户设定。

14.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准包括光的强度或者粒子大小的上限值和下限值。

15.根据权利要求12或13所述的测定装置，其特征在于：

所述评价基准基于统计信息设定。

16.根据权利要求15所述的测定装置，其特征在于：

所述统计信息从所述门内的细胞数量、光的强度的中位数、光的强度的平均值、或者光的强度的标准偏差选择。

17.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

在所述输入界面显示接受用户所输入的文字的输入区域。

18.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

在所述输入界面显示接受用户选择的图标。

19.根据权利要求1至3其中任意一项所述的测定装置，其特征在于：

在所述输入界面显示接受用户选择的下拉列表。