[发明专利]纹路识别模组和显示设备有效

专利信息
申请号: 201910937099.0 申请日: 2019-09-29
公开(公告)号: CN110633695B 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 海晓泉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06V40/13 分类号: G06V40/13;G02F1/153;G02F1/155
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 武娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 纹路 识别 模组 显示 设备
【权利要求书】:

1.一种纹路识别模组,其特征在于,包括:光源阵列、电致变色器阵列与图像传感器阵列;

所述电致变色器阵列位于所述光源阵列与所述图像传感器阵列之间;所述光源阵列包括多个光源,所述电致变色器阵列包括多个电致变色器,所述图像传感器阵列包括多个图像传感器;所述图像传感器配置为接收从所述光源发出的且经纹路反射、所述电致变色器透射至图像传感器的光以进行纹路采集;

所述纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的多个光源发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源;所述第一发光区的成像图像包括第一非成像区与第一成像区;所述第一成像区用于获取第一纹路图像;以及

在纹路采集的过程中,第一电致变色区中的多个电致变色器处于遮光状态,以阻止从所述光源发出的且经纹路反射的光到达所述第一非成像区,位于所述第一电致变色区之外的电致变色器处于透光状态,以透过从所述光源发出的且经纹路反射的光,所述图像传感器接收从电致变色器透过的光以获得所述第一纹路图像。

2.根据权利要求1所述的纹路识别模组,其特征在于,所述电致变色器,包括:第一透明电极、电致变色层、离子导体层、离子存储层以及第二透明电极;

所述第二透明电极位于靠近所述图像传感器阵列的一侧,所述离子存储层位于所述第二透明电极上,所述离子导体层位于所述离子存储层上,所述电致变色层位于所述离子导体层上,所述第一透明电极位于所述电致变色层上;

当在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间施加正向直流电压时,所述离子存储层中的离子被抽出,在所述离子通过所述离子导体层进入所述电致变色层后,所述电致变色层变色并吸收从所述光源发出的且经纹路反射至所述电致变色层的光,所述电致变色器处于遮光状态;

当在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间施加反向直流电压时,所述电致变色层中的离子被抽出后通过所述离子导体层进入所述离子存储层,所述电致变色层褪色至透光状态,所述电致变色器处于透光状态。

3.根据权利要求2所述的纹路识别模组,其特征在于,所述电致变色层的材料为三氧化钨、三氧化钼或者二氧化钛。

4.根据权利要求1所述的纹路识别模组,其特征在于,还包括线偏振片,所述线偏振片位于所述光源阵列与所述电致变色器阵列之间;所述线偏振片的透振方向为第一方向;所述电致变色器,包括:第三透明电极、液晶层与第四透明电极;所述液晶层位于所述第三透明电极与所述第四透明电极之间;

当所述第三透明电极与所述第四透明电极之间未施加电信号时,所述液晶层的透振方向为所述第一方向,所述电致变色器处于透光状态;

当所述第三透明电极与所述第四透明电极之间施加电信号时,所述液晶层的透振方向为所述第二方向,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述电致变色器处于遮光状态。

5.根据权利要求1所述的纹路识别模组,其特征在于,所述第一电致变色区的面积大于或者等于所述第一发光区的面积,且小于或者等于所述第一非成像区的面积。

6.根据权利要求1所述的纹路识别模组,其特征在于,包括显示面板,所述显示面板包括像素单元阵列,所述像素单元阵列包括多个像素单元;所述光源阵列包括所述像素单元阵列,所述多个光源包括多个像素单元;

所述纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的多个像素单元发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源。

7.根据权利要求6所述的纹路识别模组,其特征在于,所述电致变色器阵列固定于所述显示面板靠近所述图像传感器阵列的表面上,或者,所述电致变色器阵列位于所述图像传感器阵列上,所述电致变色器位于所述图像传感器靠近所述光源的表面上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910937099.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top