[发明专利]清洗装置及涂胶显影系统

说明书

本公开提出一种清洗装置及涂胶显影系统。清洗装置包括供液系统、清洗系统以及控制系统。供液系统包括清洗液源及供液管路。清洗液源被配置为储存清洗液。供液管路连通于清洗液源，供液管路上设有供液阀。清洗系统包括清洗罐、清洗液喷口及输液管路。清洗罐通过供液管路连通于清洗液源，清洗罐设有第一排液阀。清洗液喷口设于涂胶显影机的清洗腔室。输液管路连通于清洗液喷口与清洗罐之间，输液管路上设有输液泵。控制系统被配置为控制供液阀、输液泵、第一排液阀和第二排液阀。通过上述设计，本公开提出的清洗装置能够实现清洗药液的自动供给和各阀件的自动切换，降低清洗装置的安全隐患和工艺不良隐患。

技术领域

本公开涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种清洗装置及涂胶显影系统。

背景技术

在例如薄膜晶体管液晶显示器(Thin film transistor liquid crystaldisplay，TFT-LCD)的显示面板制造过程中，利用涂胶显影机(Track)的涂胶显影工艺用于实现光刻胶(photoresist，PR胶)涂布和曝光后的显影，光刻胶涂布前和显影后均配有清洗机构，膜层带来的微粒(Particle)和显影后光刻胶会对清洗机构造成污染，长期污染聚集易对产品造成产线断路(Open)和絮状残留(Remain)等工艺不良，定期对清洗机构进行清洗能够有效改善这些工艺不良的发生。

目前，对涂胶显影机进行清洗的过程中，清洗液通常使用TMAH(Tetramethylammonium hydroxide，四甲基氢氧化铵)药液，需要生技人员事先通过拆卸显影液循环系统(DCS)的管路以便接取TMAH药液，之后再打开清洗机构盖板(Cover)将药液倒入设备内，手动切换阀门并清洗(例如喷雾清洗，Spray Flushing)2小时以上。清洗完成后置换清洗罐(Tank)并恢复阀门。

上述现有清洗机构在操作过程中采用纯手动作业，存在极大缺陷。TMAH药液为强碱性剧毒化学品安全隐患，手动接取倾倒易与人体接触而产生巨大伤害。接取TMAH药液时需拆卸显影液循环系统的管路，反复拆卸易造成化学品泄露甚至宕机。再者，对阀门采用手动切换的控制精确度极低，容易造成宕机甚至工艺不良。另外，在清洗过程中，TMAH药液重复使用易造成管路堵塞和横线均匀度(Mura)等不良。

发明内容

本公开的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种实现清洗药液自动供给、自动清洗且避免清洗药液重复使用的清洗装置。

本公开的另一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种具有本公开提出的清洗装置的涂胶显影系统。

为实现上述目的，本公开采用如下技术方案：

根据本公开的一个方面，提供一种清洗装置，被配置为清洗涂胶显影机的清洗腔室。其中，所述清洗装置包括供液系统、清洗系统以及控制系统。所述供液系统包括清洗液源及供液管路。所述清洗液源被配置为储存清洗液。所述供液管路连通于所述清洗液源，所述供液管路上设有供液阀。所述清洗系统包括清洗罐、清洗液喷口及输液管路。所述清洗罐通过所述供液管路连通于所述清洗液源，所述清洗罐设有第一排液阀。所述清洗液喷口设于所述清洗腔室。所述输液管路连通于所述清洗液喷口与所述清洗罐之间，所述输液管路上设有输液泵。所述控制系统被配置为控制所述供液阀、所述输液泵、所述第一排液阀和所述第二排液阀。

根据本公开的其中一个实施方式，所述供液系统包括多个所述清洗液源和多根所述供液管路，多个所述清洗液源分别被配置为储存多种清洗液，多根所述供液管路分别连通于多个所述清洗液源与所述清洗罐之间，每根所述供液管路上均设有所述供液阀。其中，所述控制系统被配置为通过控制多个所述供液阀而调节多种清洗液的配比。

根据本公开的其中一个实施方式，每根所述供液管路上均设有流量计，多个所述流量计分别电连接于所述控制系统，所述流量计被配置为测量其所在的所述供液管路的流量信息。其中，所述控制系统被配置为根据多个所述流量计采集的流量信息控制多个所述供液阀。