[发明专利]阵列透镜、透镜天线和电子设备有效

专利信息
申请号: 201910944535.7 申请日: 2019-09-30
公开(公告)号: CN112582805B 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 杨帆 申请(专利权)人: OPPO广东移动通信有限公司
主分类号: H01Q15/02 分类号: H01Q15/02;H01Q19/06;H01Q21/10;H01Q21/00;H01Q3/24;H01Q1/24;H01Q1/22
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 熊文杰
地址: 523860 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 阵列 透镜 透镜天线 电子设备
【权利要求书】:

1.一种阵列透镜,其特征在于,包括:

多层第一介质层;

多层第一阵列结构,所述第一阵列结构与所述第一介质层沿第一方向交替层叠设置,每一层所述第一阵列结构包括一个或多个呈阵列设置的第一阵列单元,多层所述第一阵列结构中位于同一相对位置的多个所述第一阵列单元在所述第一方向上同轴设置,位于同一相对位置的多个所述第一阵列单元及其对应的第一介质层共同构成一波导结构;

包括多个所述第一阵列单元的所述第一阵列结构中,至少两个所述第一阵列单元在其阵列方向上具有渐变的阵列单元尺寸,和多层所述第一阵列结构中的至少两层在所述第一方向上具有数量渐变的所述第一阵列单元;其中,

当电磁波沿所述第一方向入射至所述阵列透镜,每个所述波导结构产生人工表面等离激元,使得电磁波延所述波导结构边缘继续传播。

2.根据权利要求1所述的阵列透镜,其特征在于,每一层所述第一阵列结构中的多个所述第一阵列单元呈一维阵列,包括多个所述第一阵列单元的所述第一阵列结构中,至少两个所述第一阵列单元在所述一维阵列的延伸方向的阵列单元尺寸由所述一维阵列的阵列中心向阵列边缘对称减小。

3.根据权利要求1所述的阵列透镜,其特征在于,每一层所述第一阵列结构中的多个所述第一阵列单元呈二维阵列,所述二维阵列包括行方向和列方向,包括多个所述第一阵列单元的所述第一阵列结构中,至少两个所述第一阵列单元在所述行方向上具有渐变的阵列单元尺寸。

4.根据权利要求3所述的阵列透镜,其特征在于,包括多个所述第一阵列单元的所述第一阵列结构中,至少两个所述第一阵列单元在所述行方向的阵列单元尺寸由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称减小,且所述在所述列方向的阵列单元尺寸不变。

5.根据权利要求3所述的阵列透镜,其特征在于,包括多个所述第一阵列单元的所述第一阵列结构中,至少两个所述第一阵列单元在所述列方向上具有渐变的阵列单元尺寸。

6.根据权利要求5所述的阵列透镜,其特征在于,包括多个所述第一阵列单元的所述第一阵列结构中,至少两个所述第一阵列单元在所述行方向的阵列单元尺寸由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称减小,在所述列方向的阵列单元尺寸由所述二维阵列的第二中心线向阵列边缘对称减小。

7.根据权利要求1所述的阵列透镜,其特征在于,至少一个所述波导结构在所述第一方向上具有渐变的所述阵列单元尺寸。

8.根据权利要求1所述的阵列透镜,其特征在于,所述阵列透镜包括相背设置的顶层和底层,多层所述第一阵列结构中的至少两层中的所述第一阵列单元的数量在所述第一方向上由所述阵列透镜中间层向所述顶层或/和底层减少;其中,所述中间层为具有最多所述第一阵列单元的第一阵列结构。

9.根据权利要求8所述的阵列透镜,其特征在于,每一层所述第一阵列结构中的多个所述第一阵列单元呈一维阵列设置,且在至少两个所述波导结构上的所述第一阵列单元的数量由所述一维阵列的阵列中心向阵列边缘对称减小。

10.根据权利要求8所述的阵列透镜,其特征在于,每一层所述第一阵列结构中的多个所述第一阵列单元呈二维阵列设置;且在至少两个所述波导结构上的所述第一阵列单元的数量由所述二维阵列的阵第二中心线向阵列边缘对称减小,多个所述第一阵列单元关于所述阵第二中心线对称设置。

11.根据权利要求10所述的阵列透镜,其特征在于,每行所述波导结构中的所述第一阵列单元的数量由第一中心线向阵列边缘对称减小,每列所述波导结构中的所述第一阵列单元的数量相等,其中,所述第一中心线与所述二维阵列的列方向相同。

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