[发明专利]一种双工位的曝光机以及工作方法

说明书

本发明提供了一种双工位的曝光机以及工作方法，包括底座和设置在所述底座上的多轴运动平台和龙门，所述多轴运动平台上安装有基板台面，基材放置在所述基板台面上，所述多轴运动平台能够带动基材在三维空间中运动，所述多轴运动平台包括y轴运动组件，所述y轴运动组件设置在底座上穿过所述龙门，所述y轴运动组件上设置有第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台沿所述y轴运动组件运动，所述龙门安装有曝光系统，在所述曝光系统的前后两侧分别安装有对应于第一工作台和第二工作台的第一对位系统和第二对位系统。结构简单可靠，形成交替式曝光作业，大大提升了生产效率，降低制造和使用成本，极大提高了产品性价比。

技术领域

本发明属于光源直投式曝光机的技术领域，具体涉及一种双工位的曝光机以及工作方法。

背景技术

光源直投式曝光机设备又称影像直接投射设备，可应用于半导体和PCB以及平面成像领域的研发，生产。直投式是利用图形发生器取代传统的掩模技术，直接将计算机的图形数据曝光到产品上，节省成本和提高效率。传统曝光机的CCD对位和曝光是在同一工位上，先对位后曝光。

传统曝光机的单台面模式生产速度已经发展到极限，需要双台面设计提升生产速度，光学引擎造价高，双台面设计可提高光学部分的利用率，节约成本，提高设备性价比；当前市面上双台面曝光机有两种，均有不理想之处，一是上下交互双台面模式，此模式导轨挂单边受力不均匀，长时间使用会导致精度下降；二是左右双台面结构，两台面左右分布安装，光学系统需要左右移动，因为光学非常敏感，活动的光学系统使曝光精度下降，此外，以上两种模式均两组Y向导轨结构，安装要求很高。

发明内容

针对上述问题，本发明提供了一种双工位的曝光机以及工作方法，结构简单可靠，形成交替式曝光作业，大大提升了生产效率，降低制造和使用成本，极大提高了产品性价比。

其技术方案是这样的：

一种双工位的曝光机，包括底座和设置在所述底座上的多轴运动平台和龙门，所述多轴运动平台上安装有基板台面，基材放置在所述基板台面上，所述多轴运动平台能够带动基材在三维空间中运动，所述多轴运动平台包括y轴运动组件，所述y轴运动组件设置在底座上穿过所述龙门，所述y轴运动组件上设置有第一工作台和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台沿所述y轴运动组件运动，所述龙门安装有曝光系统，在所述曝光系统的前后两侧分别安装有对应于第一工作台和第二工作台的第一对位系统和第二对位系统。

进一步的，所述第一工作台和所述第二工作台沿y轴运动组件运动的轨迹部分重合。

进一步的，所述曝光系统的扫描中心和所述第一对位系统的对位中心A之间至少具有容纳一个基板台面的距离；所述曝光系统的扫描中心和所述第二对位系统的对位中心B之间至少具有容纳一个基板台面的距离。

进一步的，所述基板台面上能够沿x轴设置至少一块基材，所述第一对位系统和所述第二对位系统对所述至少一块基材对位，所述第一对位系统和所述第二对位系统包括两个位于两端的移动对准相机，

进一步的，所述x轴方向放置两块以上基材时，还包括至少一个位于所述两端的移动对准相机中间的移动对准相机，所述位于中间的移动对准相机同时对相邻的基材的相邻边上对位点进行对位。

进一步的，所述基板台面上能够沿x轴并排设置两块基材，所述第一对位系统和所述第二对位系统同时对所述两块基材对位。

进一步的，所述第一对位系统和所述第二对位系统包括两个位于两端的移动对准相机和一个位于所述两端的移动对准相机中间的移动对准相机，所述位于中间的移动对准相机同时对两个基材的相邻边上对位点进行对位。

进一步的，所述位于中间的移动对准相机可以沿x轴方向移动，或者固定于固定位置。

进一步的，所述第一对位系统和所述第二对位系统设置于独立的龙门机构。

一种双工位的曝光机的工作方法，其特征在于：