[发明专利]一种蓝宝石晶片退火工艺在审

专利信息
申请号: 201910946943.6 申请日: 2019-10-07
公开(公告)号: CN110846720A 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 丁云海;卢东阳;余胜军;张京伟 申请(专利权)人: 淮安澳洋顺昌集成电路股份有限公司
主分类号: C30B33/02 分类号: C30B33/02;C30B29/20
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 温福雪
地址: 223001*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 蓝宝石 晶片 退火 工艺
【权利要求书】:

1.一种蓝宝石晶片退火工艺,其特征在于,步骤如下:

(1)清洗:对研磨加工清洗干净后蓝宝石晶片使用超声波进一步清洗,清洗去除蓝宝石晶片表面的灰尘和杂质,减少由于高温产生白点和亮点缺陷;

(2)退火处理:将清洗后的蓝宝石晶片叠片后放置于坩埚中,进行后面的多级退火处理;多级退火处理如下:第一步,退火炉升温,由室温升温至1000℃,梯度2.5-3℃/min,并恒温30-60min;第二步,升温至1450℃,梯度2.5-3℃/min,恒温8-12h;第三步,缓慢降温至1200℃,降温梯度1.5-2℃/min,并恒温2-3h;第四步,继续降温至600℃,降温梯度1.5-2℃/min,并继续恒温2-3h;退火炉停止工作,将晶片自然降温至室温;

(3)将退火出炉后的蓝宝石晶片使用分选机台进行检测,对比退火前的warp值,比退火前下降1-2um。

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