[发明专利]曝光机

说明书

本发明提供一种曝光机，包括光罩导轨、光罩平台、转移构件、静电消除构件以及控制装置，光罩导轨包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；光罩平台放置在光罩导轨上，用于承载光罩；转移构件用于转移光罩；静电消除构件用于在转移构件转移光罩时，消除光罩因脱离光罩平台所产生的静电；控制装置用于在满足预定条件时，控制静电消除构件的工作。本发明通过设置静电消除构件，消除了光罩平台和光罩脱离过程中产生的静电，改善了因静电原因造成的光罩电路图形损坏。

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种曝光机。

背景技术

现有技术中的曝光机中，光罩放置在光罩平台上以对玻璃基板进行曝光，为保证曝光效果，通常在光罩与光罩平台之间用空气吸附固定，使用完成后需要将光罩从光罩平台上脱离。然而，剥离过程中会产生大量的静电，破坏光罩上的电路图形。

因此，现有技术的曝光机存在光罩剥离时电路图形被破坏的技术问题，需要改进。

发明内容

本发明提供一种曝光机，以解决现有曝光机在光罩剥离时，电路图形被破坏的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种曝光机，包括：

光罩导轨，包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；

光罩平台，放置在所述光罩导轨上，用于承载光罩；

转移构件，用于转移所述光罩；

静电消除构件，用于在所述转移构件转移所述光罩时，消除所述光罩因脱离所述光罩平台所产生的静电；

控制装置，用于在满足预定条件时，控制所述静电消除构件的工作。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件为软X射线静电消除器。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件设置在所述第一光罩导轨远离所述第二光罩导轨的一侧、以及所述第二光罩导轨远离所述第一光罩导轨的一侧中的至少一个。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件设置在靠近所述光罩平台的至少一个角处。

在本发明的曝光机中，所述静电消除构件设置在所述第一光罩导轨和第二光罩导轨之间。

在本发明的曝光机中，所述控制装置包括控制器和传感器，所述传感器用于检测所述转移构件与光罩平台之间的距离，所述控制器用于在所述距离小于预设值时，控制所述静电消除构件的工作。

在本发明的曝光机中，所述控制装置包括传感器和控制器，所述传感器用于检测所述转移构件与光罩平台之间的距离，所述控制器用于在根据所述传感器检测结果确定所述距离变化时，控制所述静电消除构件的工作。

在本发明的曝光机中，所述传感器为超声波测距离传感器、激光测距传感器或红外线测距传感器中的一种或多种。

在本发明的曝光机中，所述控制装置包括控制器，所述控制器用于在接收到光刻结束信号时，打开所述静电消除构件。

在本发明的曝光机中，所述传感器设置在所述光罩平台外部。

本发明的有益效果为：本发明提供一种曝光机，包括光罩导轨、光罩平台、转移构件、静电消除构件以及控制装置，所述光罩导轨包括互相平行的第一光罩导轨和第二光罩导轨；所述光罩平台放置在所述光罩导轨上，用于承载光罩；所述转移构件用于转移光罩；所述静电消除构件用于在所述转移构件转移所述光罩时，消除所述光罩因脱离所述光罩平台所产生的静电；所述控制装置用于在满足预定条件时，控制所述静电消除构件的工作。本发明通过设置静电消除构件，消除了光罩平台和光罩脱离过程中产生的静电，改善了因静电原因造成的光罩电路图形损坏。

附图说明