[发明专利]气囊内窥镜再处理系统和方法

权利要求书

1.一种用于气囊内窥镜的再处理方法，所述方法包括：

将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；

在使所述气囊内窥镜的气囊放气的同时，对所述要再处理的气囊内窥镜执行再处理；

之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气；

之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气；以及

在使所述气囊内窥镜的所述气囊放气的同时，对所述要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。

2.根据权利要求1所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，当对所述气囊充气时，不对所述气囊内窥镜执行再处理。

3.根据权利要求1所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，当对所述气囊充气时，以不损坏所述气囊的方式对所述气囊内窥镜执行有限的再处理。

4.根据权利要求3所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述有限的再处理包括以下程序中的至少一个程序：

暂停所述内窥镜再处理系统的再处理室中的活动件的操作；

暂停对所述内窥镜再处理系统所使用的溶液的加热；

监测并控制所述气囊中的压力以防止所述气囊过度充气。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述再处理方法由所述内窥镜再处理系统来实施，所述内窥镜再处理系统包括再处理控制器，所述再处理控制器至少具有以下操作阶段：

第一气囊内窥镜气囊放气阶段，其中，所述气囊内窥镜的所述气囊呈第一气囊放气构型；

当所述气囊内窥镜的气囊呈所述第一气囊放气构型时的再处理阶段；

气囊充气阶段，其中，所述气囊内窥镜的气囊呈气囊充气构型；

在所述气囊充气阶段之后的另一气囊放气阶段，其中，所述气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型；以及

当所述气囊内窥镜的气囊呈所述另一气囊放气构型时的进一步再处理阶段。

6.根据权利要求1或权利要求2所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中：

所述再处理方法由所述内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施；并且

所述之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气和所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气中的至少一者是利用所述独立的泄漏测试装置来执行的。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中：

所述再处理方法由所述内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施；并且

所述之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气和所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气是利用所述独立的泄漏测试装置来执行的。

8.根据权利要求6或权利要求7所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，还包括：

在所述执行再处理之后，从所述再处理系统中移除所述气囊内窥镜；以及

在所述执行进一步再处理之前，将所述气囊内窥镜放回到所述再处理系统中。

9.根据权利要求8所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，还包括：

在所述执行再处理之后且在所述移除所述气囊内窥镜之前，暂停所述再处理系统的操作；以及

在所述将所述气囊内窥镜放回之后，重新开始所述再处理系统的操作。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中：

在所述执行再处理期间，使所述气囊内窥镜的所述气囊的外表面的第一组区域暴露，以便进行再处理；

在所述执行进一步再处理期间，使所述气囊内窥镜的所述气囊的所述外表面的第二组区域暴露，以便进行再处理；并且

所述第一组区域和所述第二组区域至少部分地不同。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述执行再处理和所述执行进一步再处理包括执行相同的再处理步骤。