[发明专利]一种tRNA修饰酶基因在非小细胞肺癌中的应用有效
申请号: | 201910950916.6 | 申请日: | 2019-10-08 |
公开(公告)号: | CN110628791B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 翟日洪;和琪涵;杨林;丁培堃;杨文瀚;高开屏 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | C12N15/54 | 分类号: | C12N15/54;C12N15/85;A61P35/00;C12Q1/6886;C12N15/113 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 李小焦;彭家恩 |
地址: | 518060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 trna 修饰 基因 细胞 肺癌 中的 应用 | ||
本申请公开了一种tRNA修饰酶基因在非小细胞肺癌中的应用。本申请研究发现SEQ ID No.1所示序列的tRNA修饰酶基因,即FTSJ1基因,在非小细胞肺癌(NSCLC)癌组织中和NSCLC细胞中的表达水平都显著低于癌旁组织和正常支气管上皮细胞;证实FTSJ1低表达促进NSCLC细胞增殖、迁移并抑制凋亡;FTSJ1基因重组载体能有效抑制NSCLC细胞增殖和迁移并诱导NSCLC癌细胞凋亡,具有抗癌应用价值,可用于靶向药物研发及临床诊断检测。因此,本申请提供了tRNA修饰酶FTSJ1基因及FTSJ1重组载体在非小细胞肺癌中的新用途,为非小细胞肺癌的早期诊断、筛查、治疗提供了一种新的方案和途径。
技术领域
本申请涉及非小细胞肺癌诊断和治疗试剂领域,特别是涉及一种tRNA修饰酶基因在非小细胞肺癌中的应用。
背景技术
肺癌是世界上发病率及死亡率最高,对人类健康危害最大的恶性肿瘤之一。全球每年大约有160万人死于肺癌,其中,非小细胞肺癌(non-small cell lung cancer,NSCLC)约占肺癌总数的80%,是癌症导致死亡的最常见原因。在中国,肺癌不仅是最常见的恶性肿瘤,而且在过去的20多年里其发病率和死亡率均呈上升态势。根据世界卫生组织预测,如果不能采取有效的防治措施,中国到2025年每年将有超过一百万的新发肺癌患者,严重威胁国人的生命健康。因此,加强肺癌的防治研究,是当前肿瘤防治中重大而迫切的课题。
在临床上,外科手术是治疗早期NSCLC(I-II期)患者的最有效方法。比如,病理分期为IA的病人,手术后5年生存率可达80-90%;而IIB的病人术后5年存活率仅有56%。但是,由于NSCLC早期无典型的临床症状和体征,缺乏有效的早期诊断方法,70%以上的患者确诊时肿瘤已局部晚期或发生转移,无法进行切除治疗,失去了手术治疗的机会,因而外科切除仅适用于约30%的NSCLC患者。对于中晚期患者,以铂类药物为基础的联合化疗是临床治疗NSCLC的主流手段。多数患者化疗初期对药物敏感,表现为肿瘤体积缩小,临床症状明显减轻。但后期效果不佳,有效率仅约20%。而且化疗的毒副作用较大,多数病人容易产生耐药。其中多药耐药性(MDR)是导致肺癌化疗失败的主要原因。
近年来,作用于EGFR基因活性突变和ALK基因重排分子的靶向药物以其高效性、低毒性为晚期NSCLC的治疗开辟了新的途径。但总的来说,靶向药物治疗只对大约20%的NSCLC患者(主要是年轻的腺癌病人)有效,鳞癌以及高龄患者从EGFR-TKI靶向药物治疗中获益有限。在过去的5年中,以抗PD-1、PD-L1、CTLA-4的单克隆抗体为代表的免疫治疗异军突起,成为继手术、化疗、靶向治疗后又一种具有潜力的治疗NSCLC的方式。但是,免疫治疗的有效率也仅为20%左右,脱靶毒性及细胞因子风暴等毒副作用以及显著的耐药性等问题还有待克服。因此,虽然近年来在化疗、靶向药物、免疫治疗等中晚期NSCLC的治疗手段方面取得了明显的进步,NSCLC总体治疗效果并不理想,目前NSCLC治疗总的5年生存率只有4-17%。所以仍然迫切需要更深入地研究NSCLC的分子发病机制,积极探索新的治疗靶点和治疗方法。
转运RNA(transfer RNA,tRNA)是细胞内主要的一类RNA分子。在细胞内,tRNA分子首先以前体形式由RNA聚合酶III转录而成,然后经过加工修饰成为长度为70-90个核苷酸(nt)的成熟的tRNA。tRNA的二级结构呈三叶草型,由D臂、反密码子臂、T臂、额外臂和氨基酸受体臂组成。tRNA折叠后形成倒“L”型的三级结构,有利于tRNA携带的氨基酸进入核糖体的特定部位。tRNA的经典功能是参与蛋白质的合成,其3’末端负责将相应的氨基酸携带进入核糖体,然后通过反密码子与信使RNA(mRNA)上的密码子相互配对识别,从而实现遗传信息的精准传递和翻译。tRNA作为细胞内连接遗传信息和对应氨基酸之间的“接头分子”,是蛋白质合成中的关键大分子之一。
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