[发明专利]基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料

权利要求书

1.一种基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，包括衬底、设置在衬底表面的激光隐身层、设置在激光隐身层表面的红外宽谱损耗性介质膜层以及设置在最外层的可见光膜层，其满足：

对10.6 μm波段的激光波的吸收率在0.9以上；

对3-5 μm以及8-14 μm波段的红外光吸收率低于0.3；

对5-8 μm波段内的红外光的吸收率为0.7~0.9。

2.根据权利要求1所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述激光隐身层为包含以金属圆盘为单元的二维矩形阵列的金属层。

3.根据权利要求2所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述金属为金、银、铜、铝中的一种或多种。

4.根据权利要求2所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，金属圆盘为直径为5~6μm，高度为0.5~1.5μm，阵列周期为9.5~10.5μm的圆柱体。

5.根据权利要求1~3任一项所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述激光隐身层包括敷设在衬底一侧表面的金属基体以及设置在金属基体表面的所述金属圆盘。

6.根据权利要求5所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述金属基体的厚度大于100 nm。

7.根据权利要求1所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述红外宽谱损耗性介质需要满足：在3-14μm红外波段存在吸收，即折射率虚部不为零，其中3-5 μm和8-14 μm的折射率虚部小于0.1。

8.根据权利要求7所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述红外宽谱损耗性介质膜层为锗锑碲合金薄膜，厚度t₁和折射率n₁满足4n₁t₁≈6.5μm。

9.根据权利要求1所述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述可见光膜层满足：

带隙E_g0.41 eV；

等离激元共振频率较高。

10.根据权利要求9述的基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料，其特征在于，所述可见光膜层选择的材料为Si、Ge、ZnSe、GaAs中的一种或多种，其厚度为5~40nm。