[发明专利]关键尺寸扫描电子显微镜机台的校准方法

权利要求书

1.一种关键尺寸扫描电子显微镜机台的校准方法,其特征在于，包括：

提供用于关键尺寸扫描电子显微镜机台校准的晶圆，所述晶圆上具有曝光显影后形成的图形；

在所述晶圆上选取N个图形区域组成第一测试图形；

在所述晶圆上剩余的图形区域中选取L个图形区域组成第二测试图形；

使用第一关键尺寸扫描电子显微镜机台测量所述第一测试图形中N个图形区域的关键尺寸并获取关键尺寸平均值A1；

使用第二关键尺寸扫描电子显微镜机台测量所述第一测试图形中N个图形区域的关键尺寸并获取关键尺寸平均值A2；

使用所述第二关键尺寸扫描电子显微镜机台测量所述第二测试图形中L个图形区域的关键尺寸并获取关键尺寸平均值B2；

使用所述第一关键尺寸扫描电子显微镜机台测量所述第二测试图形中L个芯片的关键尺寸并获取关键尺寸平均值B1；

获取所述第一测试图形和所述第二测试图形的关键尺寸平均值偏差；

获取所述图形区域的目标尺寸值X；

比较所述关键尺寸平均值偏差与所述目标尺寸值X；

当所述关键尺寸平均值偏差＜0.01X时，所述第一关键尺寸扫描电子显微镜机台与所述第二关键尺寸扫描电子显微镜机台匹配；

当所述关键尺寸平均值偏差≥0.01X时，所述第一关键尺寸扫描电子显微镜机台与所述第二关键尺寸扫描电子显微镜机台不匹配；

其中，所述关键尺寸平均值偏差＝|((A1-A2)-(B2-B1))/2|，所述第一测试图形最外围图形区域的连线围成的区域与所述第二测试图形最外围图形区域的连线围成的区域存在交叠区域，所述第二测试图形中所有图形区域的相邻图形区域中有不小于20％L个图形区域属于所述第一测试图形。

2.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，测试区域中各个图形区域的关键尺寸与所述测试区域中各个图形区域的关键尺寸算术平均值的最大偏差大于所述算术平均值的百分之一；

其中，所述测试区域由所述晶圆上的若干个图形区域组成，所述第一测试图形或所述第二测试图形至少包含所述测试区域中的一个图形区域，或者所述第一测试图形或所述第二测试图形不包含所述测试区域中的图形区域。

3.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，测试区域中各个图形区域的关键尺寸与所述测试区域中各个图形区域的关键尺寸算术平均值的最大偏差不大于所述算术平均值的百分之一；

其中，所述测试区域由所述晶圆上的若干个图形区域组成，所述第一测试图形或所述第二测试图形至少包含所述测试区域中的一个图形区域，或者所述第一测试图形或所述第二测试图形不包含所述测试区域中的图形区域。

4.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述晶圆具有M个图形区域，所述N的取值范围为：0.01M≤N≤0.1M或所述L的取值范围为：0.01M≤L≤0.1M。

5.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述第一测试图形和所述第二测试图形均在所述晶圆上均匀分布。

6.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述晶圆包括第一半区和第二半区，所述第一测试图形和所述第二测试图形均位于第一半区、或均位于第二半区。

7.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述图形区域包括洞、沟槽、线中的一种图形所构成的区域。

8.根据权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述N和所述L相等。