[发明专利]一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺

权利要求书

1.一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1：将透镜固定在夹具上；

(1)底座由工作电机带动旋转，工作台与底座固定；

(2)透镜放置于吸孔槽上，吸孔槽尺寸根据透镜尺寸进行设置，调整后使得透镜边缘刚好嵌在吸孔槽上；

(3)工作台采用真空吸附原理，使透镜牢牢被吸附在吸孔槽上，吸孔槽的高度控制在5mm-10mm之间；

S2：滴油墨于透镜表面，使得透镜表面完全被油墨覆盖；

S3：通过电机控制旋转转速使透镜表面涂布层厚度保持高速均一性；

S4：对于油墨层高厚度要求可采取高转速分多次进行涂布，以控制涂布层厚度均一性。

2.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述透镜有三层，上面两层为反射防止膜，最下边一层为透镜基板，所述透镜为不规则弧形且中间位置为下凹型。

3.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述的反射防止膜设于透镜表面，由两层低反射层堆积形成，所述的透镜折射率为1.53以上、1.70以下，所述的两层低反射层中第一低反射层折射率为1.30～1.50且光学膜厚为60～140nm、第二低反射层折射率为1.15～1.23且光学膜厚为60～140nm。

4.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述的基材层、多层膜的折射率设定为在He光源的d线下获得，所述的d线波长为587.56nm。

5.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述的反射防止膜对于入射角度0度时光线的反射率最大值不超过0.2％、最小值不超过0.1％，所述光线的波长为600nm。

6.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述的反射防止膜对于入射角度0度时光线的反射率最大值不超过0.8％，所述光线的波长为780nm。

7.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述的第一低反射层由SiO2、MgF2的单体或者其化合物组成，第二低反射层由包含Si的中空微粒子组成。

8.根据权利要求1所述的一种双面反射防止膜透镜涂布加工工艺，其特征在于：所述的反射防止膜设于光学部件透镜的单面或双面上。

9.一种透镜涂布夹具，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)为圆柱长杆，且底座(1)的内部是空心的，底座(1)的下端开设有方槽，所述方槽用于底座与外部电机的连接固定，所述的上端平行固定安装有工作台(2)，所述工作台(2)为圆盘形且工作台(2)的内部为空心状，工作台(2)的内部与底座(1)的内部连通，所述工作台(2)的上端垂直向上固定安装有吸气管道(3)，且吸气管道(3)均匀分布有十六组，所述吸气管道(3)内部开设有吸孔槽(4)，吸孔槽(4)可根据透镜尺寸进行相应设计，平台也可根据需求进行大小调整，所述吸气管道(3)的上端吸附有透镜(5)。

所述工作台(2)、吸气管道(3)和吸气槽(4)为一体成型的，由于透镜(5)的边缘非有效区比较小，所以吸孔槽(4)的边缘设计成30-60°的斜边；

所述底座(1)、工作台(2)、吸气槽(4)均采用POM板制成。