[发明专利]一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂及其制备方法

权利要求书

1.一种具有高黏附性的ArF光刻胶树脂，其特征在于，含有如下按重量百分比计的组分：10％～40％内酯单体、20％～60％酸保护单体、0％～25％非极性单体和0％～15％腈基单体，且非极性单体和腈基单体的百分含量不为0；

所述腈基单体具有如下结构：

其中，R₃＝H或CH₃；R₉＝C_nH_2n，n为1-12的整数；R₁₀＝C_nH_2n，n为1-12的整数；

所述内酯单体具有如下结构：

其中：R₁＝C_nH_2n，n为1-5的整数；R₂＝C_nH_2n，n为1-5的整数；R₃＝H或CH₃，R₆＝C_nH_2n，n为1-5的整数；

所述酸保护单体具有如下结构：

其中，R₄＝C_nH_2n+1，n为1-10的整数；R₅＝H或CH₃；

所述非极性单体具有如下结构：

其中，R₃＝H或CH₃；R₁₁＝C_nH_2n+1，n为1-10的整数；R₁₂＝C_nH_2n+1，n为1-10的整数。

2.如权利要求1所述的ArF光刻胶树脂，其特征在于，所述ArF光刻胶树脂含有如下按重量百分比计的组分：20％～30％内酯单体、30％～50％酸保护单体、5％～15％非极性单体和1％～10％腈基单体。

3.权利要求1或2所述的ArF光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将10％～40％内酯单体、20％～60％酸保护单体、0％～25％非极性单体和0％～15％腈基单体加入充满氮气的反应釜内，往所述反应釜内加入乙酸乙酯，搅拌均匀后将反应釜升温至77-79℃，接着向所述反应釜内滴加第一乙酸乙酯和引发剂的混合液，于77-79℃反应7小时，停止反应，将所述反应釜温度冷却至室温；所述百分比为重量百分比；

(2)向步骤(1)中降至室温的反应釜内加入第一甲醇，产生沉淀1h后，导出所述反应釜内的液体，接着往所述反应釜内加入第二乙酸乙酯至沉淀溶解；所述第一甲醇的重量与所述第一乙酸乙酯的重量的比为100:1；

(3)往步骤(2)的反应釜内加入第二甲醇，重复步骤(2)的操作，得到固体沉淀物，将所述固体沉淀物置于真空干燥，得到ArF光刻胶树脂；所述第一甲醇的重量与所述第二甲醇的重量相同。

4.如权利要求3所述的ArF光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，步骤(1)中：所述滴加的时间≤30min；所述第一乙酸乙酯与所述引发剂的质量比为5:1-8:1。

5.如权利要求3所述的ArF光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，步骤(1)中：所述内酯单体与所述第一乙酸乙酯的质量比为(30-35)：(8-10)；所述引发剂为过氧化二苯甲酰。

6.如权利要求3所述的ArF光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述重复的次数为5次。

7.一种光刻胶，由权利要求1或2所述ArF光刻胶树脂制备得到。