[发明专利]一种祛痘复方制剂及其制备方法

权利要求书

1.一种祛痘复方制剂，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：保湿剂8～15％，增稠剂0.3～1％，润肤剂0～8％，乳化剂0～3％，苦参根提取物0.1～0.5％，季铵盐-730.005～0.01％，提取物A 3～8％，金缕梅提取物3～10％，藏红花提取物0.1～0.5％，余量为去离子水；

所述提取物A包括：黄檗树皮提取物20～30％、白柳树皮提取物12～18％、中国地黄根提取物5～10％、黄芩根提取物3～5％、鱼腥草提取物3～5％、野大豆籽提取物5～8％、印度楝叶提取物5～8％，余量是去离子水。

2.根据权利要求1所述的一种祛痘复方制剂，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：保湿剂10％，增稠剂0.8％，润肤剂0.5％，乳化剂0.1％，苦参根提取物0.2％，季铵盐-730.01％，提取物A 5％，金缕梅提取物5％，藏红花提取物0.5％，余量为去离子水；

所述提取物A包括：黄檗树皮提取物25％、白柳树皮提取物16％、中国地黄根提取物5％、黄芩根提取物4％、鱼腥草提取物3％、野大豆籽提取物6％、印度楝叶提取物8％，余量是去离子水。

3.根据权利要求1-2任一项所述的一种祛痘复方制剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：将生产所需器具、称量用品、机器设备清洗、消毒干净，备用；

步骤二：将润肤剂、乳化剂按比例称量，放入油相锅，搅拌升温至80～85℃，得油相，备用；

步骤三：将去离子水、保湿剂、增稠剂按比例称量，放入水相锅，搅拌升温至80～85℃，保温15～25分钟，均质3～5分钟，得水相，备用；

步骤四：将乳化锅预热至45～55℃后抽入步骤三得到的水相，保持温度80-85℃，边搅拌边抽入步骤二得到的油相，抽完后，开启真空负压，均质乳化3-5分钟，均质均匀，开始搅拌降温；

步骤五：当温度降至40～45℃，按比例称取其余原料，加入乳化锅，搅拌均匀，然后继续降温至36～38℃，其中季铵盐-73提前用多元醇溶解完全；

步骤六：检验员检验合格后，过滤出料、灌装，即得成品。

4.根据权利要求3所述的一种祛痘复方制剂的制备方法，其特征在于，所述步骤四中真空负压为-300～-400mbar。