[发明专利]涂布系统

权利要求书

1.一种涂布系统，其包括：

涂布室，所述涂布室具有外围室壁、顶壁和底壁，所述外围室壁限定室中心；

等离子体源，所述等离子体源定位在所述室中心处；

样品保持器，所述样品保持器固持多个待涂布基板，所述样品保持器能够在距所述室中心的第一距离处绕所述室中心旋转；以及

第一隔离屏蔽件，所述第一隔离屏蔽件相对于所述室中心定位在距所述室中心的第二距离处，所述第一隔离屏蔽件带负电荷。

2.根据权利要求1所述的涂布系统，其进一步包括至少一个远程阳极，所述至少一个远程阳极定位在距所述室中心的第三距离处，所述第三距离大于所述第一距离和所述第二距离。

3.根据权利要求1所述的涂布系统，其中所述第一隔离屏蔽件为金属网筛。

4.根据权利要求1所述的涂布系统，其中所述第二距离大于所述第一距离。

5.根据权利要求4所述的涂布系统，其进一步包括第二隔离屏蔽件，所述第二隔离屏蔽件定位在距所述室中心的第四距离处，所述第四距离小于所述第一距离。

6.根据权利要求5所述的涂布系统，其中所述第一隔离屏蔽件是外金属网筛，并且所述第二隔离屏蔽件是内金属网筛。

7.根据权利要求6所述的涂布系统，其中基板被加偏压到与所述内金属网筛相同的电位。

8.根据权利要求6所述的涂布系统，其中所述外金属网筛和所述内金属网筛具有各自独立地为1mm到50mm的开口。

9.根据权利要求6所述的涂布系统，其中所述外网筛和所述内网筛具有各自独立地为1mm到50mm的开口。

10.根据权利要求6所述的涂布系统，其中待涂布基板封闭在由将所述基板与所述外围室壁分离的所述第一隔离屏蔽件和将基板与中心阴极棒分离的所述第二隔离屏蔽件建立的容器中。

11.根据权利要求1所述的涂布系统，其中所述第二距离小于所述第一距离。

12.根据权利要求1所述的涂布系统，其中所述等离子体源包括中心阴极棒和围绕所述中心阴极棒的中心线圈。

13.根据权利要求12所述的涂布系统，其中多个阴极棒围绕所述中心阴极棒和所述中心线圈。

14.根据权利要求13所述的涂布系统，其中所述多个阴极棒包含偶数个棒状阴极，所述棒状阴极的纵轴被对齐为平行于所述外围室壁。

15.根据权利要求14所述的涂布系统，其中所述多个阴极棒中的每个阴极棒能够绕纵轴旋转。

16.根据权利要求15所述的涂布系统，其进一步包括多个阻挡屏蔽件，使得阻挡屏蔽件定位在所述多个阴极棒中的交替阴极棒对之间。

17.根据权利要求1所述的涂布系统，其适用于在带负电荷的金属网容器内产生的中空阴极气态等离子体中进行离子清洗和离子表面处理。

18.根据权利要求1所述的涂布系统，其适用于等离子体增强磁控溅镀(PEMS)。

19.根据权利要求2所述的涂布系统，其适用于伴随通过在中心阴极棒与由所述外围室壁定位的所述远程阳极之间建立的远程电弧放电对金属气态等离子体进行的电离的等离子体增强磁控溅镀，所述等离子体增强磁控溅镀进一步通过在所述第一隔离屏蔽件内部产生的中空阴极等离子体增强。