[发明专利]一种陶瓷基板输送机构

权利要求书

1.一种陶瓷基板输送机构，其特征在于，包括底座、上料单元、打料头单元、输送单元和导正筛选单元；

所述上料单元包括均设置在底座上且至少具有二自由度的吸附条一和吸附条二；

所述打料头单元包括均设置在底座上的打料头平台和分别紧邻打料头平台两端的两个打料头刀；

所述输送单元包括平行于吸附条一的输送带，所述输送带和打料头平台均位于吸附条一和吸附条二的下方；

所述导正筛选单元包括筛选板和三角板，所述筛选板包括平行于输送方向的第一筛选板和垂直于输送方向的第二筛选板，所述第一筛选板设置在输送带的一侧，所述第一筛选板上设置有气孔，所述第二筛选板沿纵向跨设在输送带上方，所述第二筛选板上设置有延伸至输送带外的排出舌，所述排出舌和第二筛选板的底部开设有排出槽，所述三角板设置在第一筛选板的头端的一侧。

2.如权利要求1所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述吸附条一的底部开设有倒“V”字形的槽口，所述槽口和吸附条二的底部均设置有气孔。

3.如权利要求2所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述上料单元包括设置在底座上的退出支架，所述退出支架的顶部设置有上料驱动源和驱动组件，所述驱动组件连接在上料驱动源的自由端，所述驱动组件上设置有上料支架，所述上料支架上沿竖直方向设置有升降驱动源，所述升降驱动源的自由端设置有升降支架，所述吸附条一和吸附条二自身沿横向、两者沿纵向依次的设置在升降支架的底部。

4.如权利要求1所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述打料头平台处的输送带的两侧沿输送方向分别设置有限位板，两块所述限位板在输送带的上方相互靠拢，形成输送槽。

5.如权利要求4所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述三角板邻近输送槽的出口，且其面积出口的面与第一筛选板的距离沿着输送方向逐渐减小，所述三角板和第一筛选板的最小距离不小于陶瓷基条的宽度。

6.如权利要求5所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述三角板和限位板之间设置有传感器。

7.如权利要求1所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述第二筛选板的端面上设置有导出面，其沿着输送方向逐渐远离输送带的中心线。

8.如权利要求1所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述排出槽位于三角板侧的端部开设有喇叭状的导正槽。

9.如权利要求1所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述排出槽的宽度与陶瓷基条的宽度一致。

10.如权利要求1所述的陶瓷基板输送机构，其特征在于，所述第一筛选板的上方设置有三个传感器，第一个所述传感器位于三角板后，第二个所述传感器位于第一个传感器后，第三个所述传感器位于第二个传感器后，且与排出槽的距离不小于陶瓷基条的长度。