[发明专利]多功能光学膜及其生产方法

权利要求书

1.多功能光学膜,包括基板,其特征在于：它还包括在基板表面由内向外依次分布的减反射膜层、化学加硬膜层和物理加硬膜层；

所述减反射膜层为多层减反射膜，包括从内至外依次分布的二氧化铈膜层、氧化铟锡膜层、氮化硅膜层和二氧化硅膜层；

所述化学加硬膜层为以甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷为单体，与环氧树脂混合制成的耐磨膜层；

所述物理加硬膜层为金刚石膜层；

多功能光学膜的生产方法包括以下步骤：

(1)对基板进行表面处理，依次包括抛光、手工擦拭、超声波清洗和离子轰击四个步骤；

(2)将金属铈放入蒸发器皿中，蒸发前对金属铈进行抛光打磨，清洗后迅速放入真空室，蒸发时通入氧气，基板温度为500℃，在基板表面镀制一层二氧化铈膜层；

(3)称取一定量的氯化铟和氯化锡配制成水溶液，在70℃恒温时，在剧烈的搅拌下加入氨水至PH＝8时停止，并加入一定量的聚乙烯醇，继续搅拌2小时，在50℃下静置老化2小时，采用离心分离洗涤沉淀，过滤后真空干燥3小时，在800℃下煅烧1小时后得到氧化铟锡纳米粉末，然后对其研磨，使其粒度变小，制得的最终产物氧化铟和氧化锡质量比为9：1，将氧化铟锡纳米粉末与去离子水、分散剂按照一定比例混合，用高速分散机分散20分钟，得到氧化铟锡料浆，将氧化铟锡料浆涂布在二氧化铈膜层表面，然后放入烘箱进行固化，制得一层氧化铟锡膜层，使氧化铟锡膜层的折射率小于二氧化铈膜层的折射率；

(4)在氧化铟锡膜层表面沉积氮化硅膜层，使氮化硅膜层的折射率小于氧化铟锡膜层的折射率；

(5)在氮化硅膜层表面沉积二氧化硅膜层，使二氧化硅膜层的折射率小于氮化硅膜层的折射率；

(6)以甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷为单体，掺入环氧树脂制备耐磨膜层加硬液，将加硬液喷涂在二氧化硅膜层表面，形成化学加硬膜层；

(7)在化学加硬膜层表面镀上一层金刚石膜层，制得多功能光学膜；

(8)对多功能光学膜进行老化处理；

步骤(8)中，老化处理是指：将多功能光学膜在空气中进行烘烤退火处理，烘烤温度为250-400摄氏度，烘烤时间为6-8小时。

2.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其特征在于：步骤(1)中，手工擦拭采用乙醇和乙醚的混合液蘸在脱脂纱布上对基板进行擦拭。

3.根据权利要求1所述的多功能光学膜，其特征在于：步骤(1)中，离子轰击的电压为5千伏，电流80毫安，轰击时间为5分钟，轰击结束后在3分钟内在基板表面镀制二氧化铈膜层。