[发明专利]在发光成像中使用的设备和组成物及其使用方法

权利要求书

1.一种设备，包括：

光子超晶格，其包括具有不同尺寸的井的表面，所述光子超晶格支持第一波长和第二波长的传播，所述光子超晶格抑制在所述第一波长和所述第二波长之间的第三波长的传播；以及

面向所述表面的光学部件，所述光学部件以一角度接收在所述第一波长处的第一冷光，所述光学部件大约以所述角度接收在所述第二波长处的第二冷光。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述角度近似垂直于所述表面。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述光子超晶格包括第一材料，所述第一材料包括所述井，所述设备还包括与所述第一材料接触的第二材料。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述第二材料具有比所述第一材料的折射率更高的折射率。

5.根据权利要求3所述的设备，还包括至少与所述第二材料接触的第三材料，所述第三材料包括第一发光体和第二发光体，所述第一冷光由所述第一发光体发射，所述第二冷光由所述第二发光体发射。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述第一发光体耦合到第一核酸，并且其中所述第二发光体耦合到第二核酸。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述井至少包括第一多个井和第二多个井，其中所述第一多个井中的每一个具有大约第一尺寸，其中，所述第二多个井中的每一个具有小于所述第一尺寸的大约第二尺寸。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述第一多个井中的至少一些被定位成十字形图案，并且其中所述第二多个井中的至少一些被定位在所述十字形图案的角中。

9.根据权利要求8所述的设备，还包括多个柱，所述多个柱中的每一个被定位在所述第一多个井中的相应的一个井中。

10.根据权利要求7所述的设备，其中所述第一多个井中的至少一些被定位成圆形图案，并且其中所述第二多个井中的至少一些被定位在所述圆形图案的周围。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述第二多个井中的至少一个被定位在所述圆形图案内。

12.根据权利要求10所述的设备，还包括多个柱，所述多个柱中的每一个被定位在所述第一多个井中的相应的一个井中。

13.根据权利要求1所述的设备，还包括多个柱，所述多个柱中的每一个被定位在所述井的相应的一个井中。

14.一种方法，包括：

通过光学组件并且从光子超晶格以一角度接收在第一波长处的第一冷光，所述光子超晶格支持所述第一波长和第二波长的传播并包括具有不同尺寸的井的表面；以及

通过光学组件并且从所述光子超晶格大约以所述角度接收在所述第二波长处的第二冷光，所述光子超晶格抑制在所述第一波长和所述第二波长之间的第三波长的传播。

15.根据权利要求14所述的方法，还包括将第一发光体耦合至第一多核苷酸，并将第二发光体耦合至第二多核苷酸，其中所述第一冷光由所述第一发光体发射，并且其中所述第二冷光由所述第二发光体发射。

16.一种组成物，包括：

光子超晶格，其包括具有带不同尺寸的井的表面的第一材料，所述光子超晶格支持第一波长和第二波长的传播，所述光子超晶格抑制在所述第一波长和所述第二波长之间的第三波长的传播；以及

第二材料，其被设置在所述井内、所述井之间或所述井之上，所述第二材料包括第一发光体和第二发光体，所述第一发光体以一角度发射在所述第一波长处的第一冷光，所述第二发光体大约以所述角度发射在所述第二波长处的第二冷光。