[发明专利]一种抛光垫修整设备和方法在审
申请号: | 201910973513.3 | 申请日: | 2019-10-14 |
公开(公告)号: | CN110722456A | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 白宗权 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | B24B53/00 | 分类号: | B24B53/00;B24B53/02;B24B53/095 |
代理公司: | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许静;胡影 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 修整 抛光垫 修整面 修整器 抛光垫修整 分区域 面积和 | ||
1.一种抛光垫修整设备,其特征在于,包括:
第一修整器,所述第一修整器上形成有用于修整抛光垫的第一修整面;
第二修整器,所述第二修整器上形成有用于修整抛光垫的第二修整面,所述第一修整面的面积和第二修整面的面积不同。
2.根据权利要求1所述的抛光垫修整设备,其特征在于,还包括:
控制结构,用于控制所述第一修整器和所述第二修整器单独或同时修整所述抛光垫。
3.根据权利要求2所述的抛光垫修整设备,其特征在于,所述控制结构用于控制所述第一修整器和/或所述第二修整器修整所述抛光垫时振动。
4.根据权利要求1所述的抛光垫修整设备,其特征在于,所述第一修整面和第二修整面分别为圆形,所述第一修整面的面积小于所述第二修整面的面积。
5.根据权利要求4所述的抛光垫修整设备,其特征在于,还包括:
控制结构,用于根据待修整区域的位置和/或面积来控制所述第一修整器和/或所述第二修整器来修整所述待修整区域。
6.根据权利要求5所述的抛光垫修整设备,其特征在于,所述控制结构,用于当所述抛光垫上的待修整区域位于所述抛光垫的边缘时,控制所述第一修整器修整所述待修整区域;
用于当所述抛光垫上的待修整区域位于所述抛光垫的中央时,控制所述第二修整器修整所述待修整区域。
7.根据权利要求1所述的抛光垫修整设备,其特征在于,还包括:
用于承载所述抛光垫的承载台,所述承载台可旋转以带动所述抛光垫旋转;
浆料供应结构,用于向所述抛光垫供应浆料。
8.一种抛光垫的修整方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供待修整的抛光垫;
用具有第一修整面的第一修整器和/或具有第二修整面的第二修整器修整抛光垫上的待修整区域,所述第一修整面的面积和第二修整面的面积不同。
9.根据权利要求8所述的修整方法,其特征在于,用具有第一修整面的第一修整器和/或具有第二修整面的第二修整器修整抛光垫上的待修整区域,包括:
根据待修整区域的位置和/或面积来控制所述第一修整器和/或所述第二修整器来修整所述待修整区域。
10.根据权利要求9所述的修整方法,其特征在于,根据待修整区域的位置和/或面积来控制所述第一修整器和/或所述第二修整器来修整所述待修整区域,包括:
当所述抛光垫上的所述待修整区域位于所述抛光垫的边缘时,控制所述第一修整器修整所述待修整区域;
用于当所述抛光垫上的所述待修整区域位于所述抛光垫的中央时,控制所述第二修整器修整所述待修整区域。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司,未经西安奕斯伟硅片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910973513.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:对刀装置及其对刀方法
- 下一篇:研磨垫修整方法