[发明专利]一种显示装置及其制作方法有效
申请号: | 201910973644.1 | 申请日: | 2019-10-14 |
公开(公告)号: | CN110726363B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 何家庆;彭浩 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G01B7/16 | 分类号: | G01B7/16;G01B11/16;G01L1/14;G01L1/24;G01L1/22;G09F9/30 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 彭绪坤 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 及其 制作方法 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括:
显示部;
弯折部;
至少一应变传感器,设置在所述弯折部,所述应变传感器用于当所述弯折部弯折时,检测所述弯折部的特征参数,所述特征参数包括电阻变化量、电容变化量、电感变化量以及光强变化量中的至少一种;
控制模组,与所述应变传感器连接,所述控制模组用于根据所述特征参数获取所述弯折部中待检测膜层的形变参数;所述待检测膜层为金属层;
调整组件,根据所述形变参数调整所述弯折部的膜层的结构,使待检测膜层的形变量满足预设条件;
其中,所述应变传感器嵌入在所述弯折部的内部;
所述应变传感器用于检测所述弯折部的电阻变化量,所述弯折部包括金属层,所述应变传感器与所述金属层位于同一层;
所述应变传感器为金属敏感栅。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述金属层包括至少一金属导线,所述金属导线包括多个间隔设置的分支部,所述应变传感器设置在相邻两个分支部之间的间隙处。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,
所述弯折部包括金属层,所述应变传感器与所述金属层位于不同层。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,
所述应变传感器设置在所述弯折部的外表面或者内表面。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,
所述应变传感器设置在所述弯折部的中间区域;
或者所述应变传感器设置在所述弯折部的两端及所述弯折部的中间区域。
6.一种显示装置的制作方法,其特征在于,包括:
制作显示装置,其包括显示部和弯折部和应变传感器;
当所述弯折部弯折时,检测所述弯折部的特征参数,所述特征参数包括电阻变化量、电容变化量、电感变化量以及光强变化量中的至少一种;
根据所述特征参数获取所述弯折部中待检测膜层的形变参数;
根据所述形变参数调整所述弯折部的形变量,以使所述待检测膜层的形变量满足预设条件;所述待检测膜层为金属层;所述根据所述形变参数调整所述弯折部的形变量,以使所述待检测膜层的形变量满足预设条件的步骤包括:
根据所述形变参数调整所述弯折部的膜层的结构;
其中,所述应变传感器嵌入在所述弯折部的内部;
所述应变传感器用于检测所述弯折部的电阻变化量,所述弯折部包括金属层,所述应变传感器与所述金属层位于同一层;
所述应变传感器为金属敏感栅。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910973644.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。