[发明专利]用于改进的激光器稳定性的热辅助磁记录设备有效

专利信息
申请号: 201910974345.X 申请日: 2019-10-14
公开(公告)号: CN111048120B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: J·G·韦塞尔;小罗杰·L·希普韦尔 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/00 分类号: G11B5/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 黄嵩泉;何焜
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 改进 激光器 稳定性 辅助 记录 设备
【权利要求书】:

1.一种用于数据记录的装置,包括:

滑块,配置成用于促进热辅助磁记录;

基板,附连到所述滑块;

激光器单元,附连到所述基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器;以及

加热器,嵌入在所述激光器单元或所述基板中,所述加热器被配置成用于在所述非发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的预热并且用于在所述发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的操控热以加热所述激光器。

2.如权利要求1所述的装置,其中所述加热器被配置成用于生成所述预热和所述操控热,以避免当在写入操作期间处于所述发射激光状态时与所述激光器的功率不稳定性相关联的温度。

3.如权利要求1所述的装置,其中所述加热器与所述激光器分开范围从2μm到120μm的间隔。

4.如权利要求1所述的装置,其中所述加热器被嵌入在所述激光器单元中并且与所述激光器分开范围从2μm到25μm的间隔。

5.如权利要求1所述的装置,其中所述加热器被嵌入在所述激光器单元中并且与所述激光器分开范围从30μm到70μm的间隔。

6.如权利要求1所述的装置,其中所述加热器被嵌入在所述基板中并且与所述激光器分开范围从40μm到120μm的间隔。

7.如权利要求1所述的装置,其中:

第一加热器被嵌入在所述激光器单元中,并且第二加热器被嵌入在所述基板中;并且

所述第一加热器和所述第二加热器被配置成用于在所述非发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的预热并在所述发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的操控热。

8.如权利要求1所述的装置,其中所述加热器包括电阻线。

9.如权利要求1所述的装置,其中:

所述激光器包括激光带;并且

所述加热器和所述激光带被设置在所述激光器单元的同一表面上。

10.如权利要求1所述的装置,其中:

所述激光器包括激光带;并且

所述加热器和所述激光带被设置在所述激光器单元的相反表面上。

11.一种用于数据记录的装置,包括:

滑块,被配置成用于促进热辅助磁记录;

基板,附连到所述滑块;

激光器单元,附连到所述基板并且包括能以非发射激光状态和发射激光状态操作的激光器;

加热器,被嵌入在所述激光器单元或所述基板中;以及

控制电路,耦合到所述激光器单元和所述加热器,所述控制电路被配置成用于使所述加热器在所述非发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的预热并且使所述加热器在所述发射激光状态期间生成用于加热所述激光器的操控热以加热所述激光器。

12.如权利要求11所述的装置,其中所述控制电路被配置成用于使所述加热器生成所述预热和所述操控热,以避免当在写入操作期间处于所述发射激光状态时与所述激光器的功率不稳定性相关联的温度。

13.如权利要求11所述的装置,其中所述加热器被嵌入在所述激光器单元中并且与所述激光器分开范围从2μm到25μm的间隔。

14.如权利要求11所述的装置,其中所述加热器被嵌入在所述激光器单元中并且与所述激光器分开范围从30μm到70μm的间隔。

15.如权利要求11所述的装置,其中所述加热器被嵌入在所述基板中并且与所述激光器分开范围从40μm到120μm的间隔。

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