[发明专利]一种用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置在审
申请号: | 201910975242.5 | 申请日: | 2019-10-14 |
公开(公告)号: | CN110726746A | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 谭军;唐培;李峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | G01N23/2204 | 分类号: | G01N23/2204;G01N23/2202;G01N23/2005;G01N23/20025 |
代理公司: | 21234 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 激光加工系统 真空密封 跨平台 电子束 真空腔体侧壁 真空转移装置 真空样品室 材料测试 封装测试 夹具结构 解锁机构 开启状态 气密法兰 扫描电镜 送入装置 样品密封 真空转移 观察窗 过渡仓 机械臂 离子束 仓门 支架 装配 衔接 观察 应用 | ||
1.一种用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,包括:用于连接电镜或者微纳激光加工系统的真空样品室和真空过渡仓的矩形气密法兰、用于真空密封转移盒安放和更换的真空过渡仓、用于观察开启的仓门、传样杆真空管道、传样杆外部控制器、旋动解锁手动阀、磁力耦合传样杆、用于封装测试样品的真空密封转移盒、传样杆夹具、用于确定真空密封转移盒的开启状态的观察窗,具体结构如下:
真空过渡仓为具有前通道、后通道、左通道、右通道、上通道的五通道结构,每个通道的端口处均设置法兰;真空过渡仓的前通道、后通道端口处分别安装仓门和观察窗,仓门与真空过渡仓的前通道通过法兰密封连接,观察窗与真空过渡仓的后通道通过法兰密封连接;真空过渡仓的左通道端口处法兰为矩形气密法兰;真空过渡仓的右通道端口处安装传样杆真空管道,传样杆真空管道与真空过渡仓的右通道通过法兰密封连接;真空过渡仓的上通道端口处安装旋动解锁手动阀,旋动解锁手动阀与真空过渡仓的上通道通过法兰密封连接;
磁力耦合传样杆的一端穿过真空过渡仓的左通道、右通道,与传样杆真空管道内的滑道配合,在传样杆真空管道内往复滑动;传样杆外部控制器安装在传样杆真空管道上,磁力耦合传样杆与传样杆外部控制器通过磁力耦合方式实现非接触连接,磁力耦合传样杆通过传样杆外部控制器实现位移控制;磁力耦合传样杆的另一端安装传样杆夹具,真空密封转移盒安装在传样杆夹具上。
2.按照权利要求1所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,真空过渡仓的左通道通过配套真空橡胶圈和矩形气密法兰与电镜或者微纳激光加工系统的真空样品室侧壁相连,真空过渡仓的右通道与配套的传样杆真空管道、传样杆外部控制器相连。
3.按照权利要求1所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,矩形气密法兰为变截面法兰,其一侧与电镜或者微纳激光加工系统的真空样品室侧壁相连,面积相对较大,其另一侧与真空过渡仓的侧壁相连通,为适应其尺寸和保证密封性能,其直径相对较小。
4.按照权利要求1所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,真空过渡仓具有可开启仓门,仓门通过真空卡钳封闭锁紧于真空过渡仓上。
5.按照权利要求1所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,传样杆夹具固定真空密封转移盒在移动过程和真空密封转移盒顶盖开启过程的相对位置,真空密封转移盒在磁力耦合传样杆的带动下进入真空过渡仓内,在真空过渡仓的仓门打开后,安装和取出真空密封转移盒;真空密封转移盒通过传样杆夹具与磁力耦合传样杆连接,实现真空密封转移盒内的样品从电镜或微纳激光加工系统真空样品室传送进入和取回,同时传样杆夹具与真空密封转移盒的基座接触部位具有绝缘层。
6.按照权利要求1所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,磁力耦合传样杆负责沿轴线方向运动,磁力耦合传样杆的机械部分与传样杆外部控制器采用非机械接触相连接,实现高真空下与磁力耦合传样杆的连接和其三维空间的位移。
7.按照权利要求1所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,真空密封转移盒上设有真空密封转移盒顶盖、密封样品托、基座、特氟龙橡胶O圈、卡槽,基座的顶部安装密封样品托,样品放置在密封样品托上,基座的底部安装卡槽,基座的上方设置可与其扣合的真空密封转移盒顶盖,真空密封转移盒顶盖与基座之间通过特氟龙橡胶O圈密封;同时,真空密封转移盒顶盖顶部安装与真空过渡仓的旋动解锁手动阀连接的机械臂解锁机构。
8.按照权利要求7所述的用于跨平台连接的样品密封和真空转移装置,其特征在于,开启真空密封转移盒顶盖后,在磁力耦合传样杆推动下进入电镜或微纳激光加工系统的真空样品室,通过卡槽与真空样品室内的样品台对接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910975242.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。