[发明专利]一种掺杂的类石墨复合薄膜及其制备方法、含有掺杂的类石墨复合薄膜的部件在审
| 申请号： | 201910979180.5 | 申请日： | 2019-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN110578114A | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 蔡海潮;薛玉君;叶军;司东宏;李航;贺江涛;杨芳;刘春阳;马喜强 | 申请（专利权）人： | 河南科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/02 |
| 代理公司： | 41119 郑州睿信知识产权代理有限公司 | 代理人： | 胡云飞 |
| 地址： | 471003 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨 复合薄膜 掺杂元素 掺杂的 质量百分比 弹性模量 耐磨损性能 力学性能 共掺杂 制备 表现 | ||
1.一种掺杂的类石墨复合薄膜，其特征在于，由掺杂元素和类石墨组成，掺杂元素为铈和铝；掺杂元素铈的质量百分比为6.47-13.49%，掺杂元素铝的质量百分比为1.19-12.26%，余量为类石墨。
2.一种如权利要求1所述掺杂的类石墨复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用磁控溅射法在预热处理后的基体表面沉积掺杂的类石墨复合薄膜，冷却，即得。
3.如权利要求2所述掺杂的类石墨复合薄膜的制备方法，其特征在于，沉积掺杂的类石墨复合薄膜包括共溅射石墨靶和掺杂靶；所述掺杂靶为铈-铝合金靶；共溅射时间为100-150分钟，石墨靶的溅射功率为120-250W，铈-铝合金靶的溅射功率为10-50W；铈-铝合金靶材中铈原子与铝原子的比为（5-50）：（50-95）。
4.如权利要求3所述掺杂的类石墨复合薄膜的制备方法，其特征在于，共溅射时间为120-150分钟，石墨靶的溅射功率为150-250W。
5.如权利要求2~3中任一项所述掺杂的类石墨复合薄膜的制备方法，其特征在于，在沉积掺杂的类石墨复合薄膜之前，先溅射沉积过渡层，过渡层为铈-铝合金层，溅射沉积过渡层采用铈-铝合金靶。
6.如权利要求5所述掺杂的类石墨复合薄膜的制备方法，其特征在于，溅射沉积过渡层的溅射功率为10-50W，溅射沉积过渡层的溅射时间为10~20分钟。
7.一种含有掺杂的类石墨复合薄膜的部件，其特征在于，包括部件基体和镀覆在部件基体上的复合镀层，复合镀层包括掺杂的类石墨复合薄膜；掺杂的类石墨复合薄膜由掺杂元素和类石墨组成，掺杂元素为铈和铝；掺杂元素铈的质量百分比为6.47-13.49%，掺杂元素铝的质量百分比为1.19-12.26%，余量为硫化物。
8.如权利要求7所述含有掺杂的类石墨复合薄膜的部件，其特征在于，复合镀层还包括设置在掺杂的类石墨复合薄膜与部件基体之间的过渡层；所述过渡层为铈-铝合金层；所述过渡层是将铈元素和铝元素通过磁控溅射法在部件基体表面沉积得到；过渡层中铈原子与铝原子的比为（5-50）：（50-95）。
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