[发明专利]激光退火设备及激光退火工艺

权利要求书

1.一种激光退火设备，其特征在于，包括：真空吸盘，用于承载晶圆；激光光源，用于对位于真空吸盘上的晶圆进行激光退火工艺；晶圆位置信息采样设备，用于采样晶圆的实际位置，并输出晶圆的实际位置信息；激光光源控制设备，用于接收晶圆的实际位置信息，并根据晶圆的实际位置信息计算晶圆的实际位置与晶圆的标准位置之间的偏差量，并根据该偏差量调整激光光源的中心点，以使激光光源的中心点跟随晶圆的中心点，当所述偏差量超过阈值时，激光光源控制设备发出报警信号。

2.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述晶圆位置信息采样设备为位于激光退火设备内的摄像头。

3.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述激光光源控制设备为PXI控制器。

4.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述偏差量为晶圆中心点在X轴方向上的晶边与真空吸盘台阶之间的距离X1和X2，及晶圆中心点在Y轴方向上的晶边与真空吸盘台阶之间的距离Y1和Y2。

5.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述偏差量为晶圆的中心点相对于晶圆的标准位置的中心点在X轴方向上的距离，及晶圆的中心点相对于晶圆的标准位置的中心点在Y轴方向上的距离。

6.根据权利要求4所述的激光退火设备，其特征在于，当偏差量X1、X2、Y1或Y2大于800微米时，激光光源控制设备发出报警信号。

7.一种激光退火工艺，其特征在于，包括：

S1：激光退火设备中的晶圆位置信息采样设备，采样晶圆的实际位置，并输出晶圆的实际位置信息；以及

S2：激光退火设备中的激光光源控制设备接收晶圆的实际位置信息，并根据晶圆的实际位置信息计算晶圆的实际位置与晶圆的标准位置之间的偏差量，并当偏差量小于预设值时调整激光光源的中心点的位置，以使激光光源的中心点与晶圆的中心点一致，当偏差量大于预设值时控制激光退火设备发出报警信号。

8.根据权利要求7所述的激光退火工艺，其特征在于，所述偏差量为晶圆中心点在X轴方向上的晶边与真空吸盘台阶之间的距离X1和X2，及晶圆中心点在Y轴方向上的晶边与真空吸盘台阶之间的距离Y1和Y2。

9.根据权利要求7所述的激光退火工艺，其特征在于，所述偏差量为晶圆的中心点相对于晶圆的标准位置的中心点在X轴方向上的距离，及晶圆的中心点相对于晶圆的标准位置的中心点在Y轴方向上的距离。

10.根据权利要求8所述的激光退火工艺，其特征在于，当偏差量X1、X2、Y1或Y2大于800微米时，激光光源控制设备发出报警信号。