[发明专利]烘箱装置及窜风阻尼结构

说明书

本发明涉及一种烘箱装置及窜风阻尼结构，两个扰流板设置于薄膜输送通道的出入口处的两侧，一方面提高腔室环境的密闭性，避免薄膜输送通道内的热气流向外流，另一方面，薄膜输送通道内的热气流流动经过两个扰流板时，扰流板的凹部起到降低热气流的流速的作用，能避免例如相邻两个烘箱单元之间、烘箱单元的薄膜进出口与外界环境之间空气窜流干扰，这样相邻烘箱单元内的热气流的温度相互影响较小，以及减小外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度，最终实现烘箱单元所对应的温度场符合于工艺要求，使得薄膜输送通道内的温度易于精确控制，保证高分子薄膜的处理质量。

技术领域

本发明涉及烘箱技术领域，特别是涉及一种烘箱装置及窜风阻尼结构。

背景技术

薄膜拉伸生产线烘箱用于为高分子薄膜提供合适的工艺条件、在高温环境下对薄膜进行拉伸及定型等处理。传统的薄膜拉伸生产线烘箱的腔室内的恒温加热气流输送到薄膜的两个表面后，再经位于腔室两侧的静压箱中部吸风口通过负压回吸，回吸的热气流被加热又通过静压箱加压并送入到腔室内的薄膜区域；另外腔室内有换气的排、送风口，设置于腔室的一侧，用于排出薄膜在加热的过程中的析出物。薄膜拉伸生产线烘箱各区存在薄膜通道，高分子薄膜依次进入到各区的薄膜通道接触热气流进行热处理。然而，一方面，相邻区的薄膜通道存在相互窜风的不良现象，相邻区的薄膜通道内的温度将会相互干扰；另一方面，腔室的内部环境与腔室的出入口也存在相互窜风的不良现象，外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度。如此导致薄膜通道内的温度难以精确控制，最终影响到高分子薄膜的质量。

发明内容

基于此，有必要克服现有技术的缺陷，提供一种烘箱装置及窜风阻尼结构，它能够减小窜风干扰，提高高分子薄膜的处理质量。

其技术方案如下：一种窜风阻尼结构，包括：间隔设置的两个腔梁，两个所述腔梁分别设置于烘箱单元的薄膜输送通道的出入口处，并分别位于所述薄膜输送通道的两侧；以及间隔设置的两个扰流板，两个所述扰流板分别设置于所述薄膜输送通道的出入口处的两侧，所述扰流板面向所述薄膜输送通道的侧面上设有凹部，两个所述扰流板的凹部的底壁之间的间距大于所述薄膜输送通道的厚度，所述扰流板的其中一侧部用于与所述烘箱单元的送风管的管壁相连，所述扰流板的另一侧部与所述腔梁的侧壁相连。

上述的窜风阻尼结构，两个扰流板设置于薄膜输送通道的出入口处的两侧，一方面提高腔室环境的密闭性，避免薄膜输送通道内的热气流向外流，另一方面，薄膜输送通道内的热气流流动经过两个扰流板时，扰流板的凹部起到降低热气流的流速的作用，能避免例如相邻两个烘箱单元之间、烘箱单元的薄膜进出口与外界环境之间空气窜流干扰，这样相邻烘箱单元内的热气流的温度相互影响较小，以及减小外部环境的空气将干扰到腔室的内部环境的温度，最终实现烘箱单元所对应的温度场符合于工艺要求，使得薄膜输送通道内的温度易于精确控制，保证高分子薄膜的处理质量。

在其中一个实施例中，窜风阻尼结构还包括排风组件；所述腔梁设有气流室，所述腔梁面向所述薄膜输送通道的梁壁上设有与所述气流室相连通的吸风口，所述气流室与所述排风组件相连通，所述排风组件用于将所述气流室内的热气流向外界环境排放。

一种烘箱装置，包括所述的窜风阻尼结构。

上述的烘箱装置，由于包括所述的窜风阻尼结构，其技术效果由窜风阻尼结构带来，有益效果与窜风阻尼结构的有益效果相同，在此不进行赘述。

在其中一个实施例中，所述烘箱装置还包括依次设置的两个以上烘箱单元，相邻两个所述烘箱单元之间设有所述的窜风阻尼结构，所述烘箱单元设有用于高分子薄膜穿过的薄膜输送通道，两个所述腔梁、两个所述扰流板均分别设置于所述薄膜输送通道的两侧。

在其中一个实施例中，所述烘箱单元还包括风管组与抽吸机构；所述风管组为两个且间隔设置，两个所述风管组之间的间隔为薄膜输送通道，所述风管组面向所述薄膜输送通道的管壁上开设有若干个出风孔，所述抽吸机构用于对所述风管组排出的热气流回吸处理。