[发明专利]天线整合式封装结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910998093.4 申请日: 2019-10-21
公开(公告)号: CN111816645A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 张简上煜;徐宏欣;林南君 申请(专利权)人: 力成科技股份有限公司
主分类号: H01L23/66 分类号: H01L23/66;H01Q1/22
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 罗英;臧建明
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 天线 整合 封装 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种天线整合式封装结构,其特征在于,包括:

芯片封装件,包括:

芯片;

密封体,至少直接覆盖所述芯片的背面;

线路层,位于所述密封体上,且电连接于所述芯片;以及

导电连接件,贯穿所述密封体且电连接于所述线路层;以及

天线元件,配置于所述芯片封装件上,且所述天线元件包括:

介电体,具有第一介电表面及相对于所述第一介电表面的第二介电表面;

耦合层,位于所述介电体的所述第二介电表面上;以及

天线层,位于所述介电体的所述第一介电表面上,且电连接于所述导电连接件。

2.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,其中:

所述芯片具有主动面、相对于所述主动面的所述背面以及连接所述主动面及所述背面的侧面;

所述芯片的所述主动面面向所述线路层;且

所述密封体直接且完全覆盖所述芯片的所述背面及所述侧面。

3.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,其中:

所述芯片具有主动面以及相对于所述主动面的所述背面;

所述芯片的所述主动面面向所述线路层;且

部分的所述密封体位于所述芯片及所述线路层之间。

4.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,其中所述天线元件还包括:

绝缘层,位于所述介电体的所述第一介电表面上,且至少覆盖部分的所述天线层;以及

连接端子,位于所述介电体的所述第一介电表面上,且所述天线层通过所述连接端子电连接于所述导电连接件。

5.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,其中所述天线元件还包括:

绝缘层,位于所述介电体的所述第一介电表面上,且至少覆盖部分的所述天线层,其中:

所述芯片封装件的所述密封体具有第一密封表面及相对于所述第一密封表面的第二密封表面;

所述线路层位于所述密封体的第一密封表面上;且

所述天线元件的所述绝缘层直接接触所述芯片封装件的所述密封体的所述第二密封表面。

6.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,其中:

所述介电体为均质材料;且

所述耦合层直接接触所述介电体的所述第二介电表面;或

所述天线层直接接触所述介电体的所述第一介电表面。

7.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,其中:

所述介电体包括第一介电部分以及第二介电部分;

所述介电体的所述第一介电表面为所述第一介电部分的部分表面;

所述介电体的所述第二介电表面为所述第二介电部分的部分表面;且

所述第一介电部分的杨氏模量大于所述第二介电部分的杨氏模量。

8.根据权利要求1所述的天线整合式封装结构,还包括:

中介件,配置于所述芯片封装件与所述天线元件之间,且所述天线元件的所述天线层通过所述中介件电连接于所述导电连接件。

9.一种天线整合式封装结构的制造方法,其特征在于,包括:

提供载板;

形成线路层于所述载板上;

形成导电连接件于所述线路层上;

配置芯片于所述线路层上;

形成密封体于所述线路层上,所述密封体包覆所述芯片且暴露出所述导电连接件;以及

配置至少一天线元件于所述密封体上,各个所述至少一天线元件包括:

介电体,具有第一介电表面及相对于所述第一介电表面的第二介电表面;

耦合层,位于所述介电体的所述第二介电表面上;以及

天线层,位于所述介电体的所述第一介电表面上,且于配置所述至少一天线元件于所述密封体上之后,所述天线层电连接于所述导电连接件。

10.一种天线整合式封装结构的制造方法,其特征在于,包括:

提供第一载板;

形成线路层于所述第一载板上;

形成导电连接件于所述线路层上;

配置芯片于所述线路层上;

形成密封体于所述线路层上,所述密封体包覆所述芯片且暴露出所述导电连接件;

形成天线层于所述密封体上;以及

形成至少部分的介电体及耦合层于所述天线层上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力成科技股份有限公司,未经力成科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910998093.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top