[发明专利]一种筒形细长薄壁纯铜样品池的化学机械抛光方法在审
申请号: | 201910998916.3 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN110640613A | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 张振宇;张群;廖龙兴;史全 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | B24B31/00 | 分类号: | B24B31/00;B24B31/10;B24B31/12;B24B47/12;C09G1/02 |
代理公司: | 21200 大连理工大学专利中心 | 代理人: | 温福雪;梅洪玉 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 样品池 抛光 抛光液 薄壁 磨粒 转轴 光洁度 双氧水 化学机械抛光 螺母 苯骈三氮唑 抛光效率 圆柱表面 长条形 壳寡糖 碳化硅 同轴度 磷酸 螺纹 纯铜 垫片 减小 锁紧 填满 种筒 变形 电机 驱动 加工 | ||
1.一种筒形细长薄壁纯铜样品池的化学机械抛光方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一:采用一带有螺纹的长条形转轴,与样品池连接,再用垫片和螺母将其锁紧;
步骤二:配制化学机械抛光液,并缓慢倒入一容器内;;
步骤三:当样品池被抛光液完全浸泡后,使样品池开始做旋转运动,进行化学机械抛光;样品池旋转速度为120~160rpm,抛光时间为45~90min。
2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,抛光液主要成分为:30wt%的双氧水溶液、85wt%的磷酸溶液、壳寡糖、苯骈三氮唑、去离子水以及碳化硅磨粒;
所述30wt%的双氧水溶液在抛光液中的含量为60~110mL/L,85wt%的磷酸溶液在抛光液中的含量为70~130mL/L,壳寡糖粉末在抛光液中的含量为8~12g/L,苯骈三氮唑含量为5~10g/L;
所述碳化硅磨粒粒径为500~1200μm,在抛光液中的含量为2~3.5g/mL。
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