[发明专利]一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置及其方法

权利要求书

1.一种防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，包含腔体和衬套，所述衬套上方设有介电窗，所述腔体、衬套和介电窗围绕形成反应腔；

所述反应腔内底部包括用于放置晶圆的基座，基座下方包括用于抽出反应腔内气体维持反应腔内低压的抽真空装置；

所述衬套一侧的侧壁设有开口，用于容纳晶圆进出，所述衬套外设有一遮挡板，用于对所述开口进行密封；

所述腔体内还设置与遮挡板连接的导向机构，通过所述导向机构实现遮挡板进行竖直运动和水平运动，完全封堵衬套侧壁上的开口。

2.如权利要求1所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述导向机构包含：

遮挡块，设置在所述遮挡板与所述腔体之间；所述遮挡块相对遮挡板的一侧设有轨道；

驱动机构，用于实现所述遮挡块在竖直方向位移；

平动机构，一端作用于所述遮挡板，另一端设有一凸轮，所述凸轮沿所述轨道滚动，推动所述遮挡板在水平方向的位移。

3.如权利要求2所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述导向机构还包含缓冲块；所述缓冲块设置在遮挡块上方弹性连接所述遮挡块，且与遮挡块无水平方向的相对位移；所述缓冲块、遮挡块、遮挡板在所述驱动装置的驱动下沿竖直方向移动；所述腔体上设置一腔体限位，所述缓冲块向上移动一定距离后与所述腔体限位抵靠，此时所述遮挡板与所述衬套侧壁上的开口高度相匹配；当缓冲块与腔体限位抵靠时，通过缓冲块在竖直方向的运动实现凸轮沿所述轨道滚动。

4.如权利要求2所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述遮挡块的轨道包括一曲面，所述平动机构的凸轮在所述曲面上滚动；从下至上的，所述曲面与衬套侧壁之间的水平距离渐增。

5.如权利要求3所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含第一连接件，所述第一连接件包含横向段和纵向段；所述纵向段垂直于水平面且设置在所述遮挡板和所述轨道之间；所述横向段固定连接缓冲块顶部并与腔体无干涉。

6.如权利要求5所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述缓冲块的顶面设有与所述横向段匹配的第一凹槽；横向段固定的嵌入设置在第一凹槽内，与腔体无接触。

7.如权利要求5所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含：第三弹簧、水平设置的第二导向杆；

第二导向杆第一端端部设有一个台阶，所述台阶位于第一连接件的纵向段与遮挡块之间，且与遮挡块无干涉；第二导向杆第二端依序垂直穿设第一连接件的纵向段、遮挡板；第二导向杆第二端固定连接遮挡板，不自遮挡板伸出；第二导向杆第二端滑动连接第一连接件纵向段；

所述第三弹簧套设在第二导向杆的第一端，弹性连接设置在第一连接件纵向段和所述台阶之间；通过第三弹簧的被压缩时的弹性恢复力，实现第二导向杆带动遮挡板背向衬套侧壁开口方向水平运动。

8.如权利要求7所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含：水平设置的凸轮连杆；

凸轮连杆第一端设置在第一连接件的纵向段与所述轨道之间，且与遮挡块无干涉；凸轮设置在凸轮连杆第一端端部；凸轮连杆第二端垂直的穿设第一连接件的纵向段，滑动连接第一连接件，并能自第一连接件伸出抵接遮挡板，推动遮挡板朝向衬套开口的方向水平运动。

9.如权利要求8所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含第二连接件，固定设置在凸轮连杆第一端端部，并与遮挡块无干涉；凸轮的轮轴固定连接第二连接件。

10.如权利要求9所述的防止反应气体泄露的等离子体处理装置，其特征在于，所述平动机构还包含：凸轮弹簧，弹性连接设置在第一连接件的纵向段和所述第二连接件之间，用于使凸轮沿着轨道的曲面滚动。