[发明专利]一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器有效
申请号: | 201911001240.2 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN110716327B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 戴道锌;宋立甲 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G02F1/03 | 分类号: | G02F1/03;G02F1/035;G02B6/12 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 ito 定向耦合器 电光 调制器 | ||
1.一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,包括总线波导和副线波导,总线波导和副线波导均布置于硅衬底(21)以及第一二氧化硅(20)上表面;
总线波导由输入硅波导(1)、耦合区硅波导(4)和输出硅波导(7)依次连接组成,输入硅波导(1)和耦合区硅波导(4)通过两个依次相连的第一弯曲硅波导(2)和第二弯曲硅波导(3)连接,耦合区硅波导(4)和输出硅波导(7)通过两个依次相连的第三弯曲硅波导(5)和第四弯曲硅波导(6)连接;耦合区硅波导(4)两侧波导相对于耦合区硅波导(4)对称布置;副线波导由第一搭载ITO矩形波导(10)、第一搭载ITO渐变波导(9)、第一搭载ITO弯曲波导(8)、耦合区等离子激元波导(11)、第二搭载ITO弯曲波导(12)、第二搭载ITO渐变波导(13)、第二搭载ITO矩形波导(14)依次连接组成,耦合区等离子激元波导(11)两侧波导相对于耦合区等离子激元波导(11)对称布置;
耦合区等离子激元波导(11)邻近于耦合区硅波导(4)且与耦合区硅波导(4)平行布置,耦合区硅波导(4)与耦合区等离子激元波导(11)相互耦合;
光信号从输入硅波导(1)输入后依次经第一弯曲硅波导(2)和第二弯曲硅波导(3)至耦合区硅波导(4)与耦合区等离子激元波导(11)的耦合区,最后依次经第三弯曲硅波导(5)和第四弯曲硅波导(6)从输出硅波导(7)输出。
2.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,第一弯曲硅波导(2)和第二弯曲硅波导(3)相连后呈S型,输入硅波导(1)与耦合区硅波导(4)平行布置,输入硅波导(1)、第一弯曲硅波导(2)、第二弯曲硅波导(3)分别与输出硅波导(7)、第四弯曲硅波导(6)、第三弯曲硅波导(5)结构相同且呈对称布置。
3.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,第一搭载ITO矩形波导(10)、第一搭载ITO渐变波导(9)、第一搭载ITO弯曲波导(8)分别与第二搭载ITO矩形波导(14)、第二搭载ITO渐变波导(13)、第二搭载ITO弯曲波导(12)呈对称布置。
4.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,第一搭载ITO矩形波导(10)、第一搭载ITO渐变波导(9)、第一搭载ITO弯曲波导(8)结构相同,由硅材料层(18)、ITO层(17)、金属层(15)由下至上依次连接组成;所述第二搭载ITO矩形波导(14)、第二搭载ITO渐变波导(13)、第二搭载ITO弯曲波导(12)和耦合区等离子激元波导(11)结构相同,由硅材料层(18)、ITO层(17)、第二二氧化硅层(16)、金属层(15)由下至上依次连接组成;所述总线波导由硅材料层(18)组成。
5.根据权利要求4所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,所述金属层(15)采用的材料为金。
6.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,所述总线波导和副线波导的上包层均为空气包层,下包层均为第一二氧化硅层(20);总线波导和副线波导均置于下包层上方。
7.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,当ITO层(17)处于低载流子浓度状态下时,光信号在耦合区发生强耦合,光信号主要耦合到搭载ITO的副线波导中传播;当ITO层(17)处于高载流子浓度状态下,光信号在耦合区发生弱耦合或不发生耦合,光信号主要在总线波导中传播;从而使得从输出硅波导(7)输出的光信号光场强度发生变化,实现对输入光信号的调制。
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