[发明专利]一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器有效

专利信息
申请号: 201911001240.2 申请日: 2019-10-21
公开(公告)号: CN110716327B 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 戴道锌;宋立甲 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02F1/03 分类号: G02F1/03;G02F1/035;G02B6/12
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林超
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 ito 定向耦合器 电光 调制器
【权利要求书】:

1.一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,包括总线波导和副线波导,总线波导和副线波导均布置于硅衬底(21)以及第一二氧化硅(20)上表面;

总线波导由输入硅波导(1)、耦合区硅波导(4)和输出硅波导(7)依次连接组成,输入硅波导(1)和耦合区硅波导(4)通过两个依次相连的第一弯曲硅波导(2)和第二弯曲硅波导(3)连接,耦合区硅波导(4)和输出硅波导(7)通过两个依次相连的第三弯曲硅波导(5)和第四弯曲硅波导(6)连接;耦合区硅波导(4)两侧波导相对于耦合区硅波导(4)对称布置;副线波导由第一搭载ITO矩形波导(10)、第一搭载ITO渐变波导(9)、第一搭载ITO弯曲波导(8)、耦合区等离子激元波导(11)、第二搭载ITO弯曲波导(12)、第二搭载ITO渐变波导(13)、第二搭载ITO矩形波导(14)依次连接组成,耦合区等离子激元波导(11)两侧波导相对于耦合区等离子激元波导(11)对称布置;

耦合区等离子激元波导(11)邻近于耦合区硅波导(4)且与耦合区硅波导(4)平行布置,耦合区硅波导(4)与耦合区等离子激元波导(11)相互耦合;

光信号从输入硅波导(1)输入后依次经第一弯曲硅波导(2)和第二弯曲硅波导(3)至耦合区硅波导(4)与耦合区等离子激元波导(11)的耦合区,最后依次经第三弯曲硅波导(5)和第四弯曲硅波导(6)从输出硅波导(7)输出。

2.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,第一弯曲硅波导(2)和第二弯曲硅波导(3)相连后呈S型,输入硅波导(1)与耦合区硅波导(4)平行布置,输入硅波导(1)、第一弯曲硅波导(2)、第二弯曲硅波导(3)分别与输出硅波导(7)、第四弯曲硅波导(6)、第三弯曲硅波导(5)结构相同且呈对称布置。

3.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,第一搭载ITO矩形波导(10)、第一搭载ITO渐变波导(9)、第一搭载ITO弯曲波导(8)分别与第二搭载ITO矩形波导(14)、第二搭载ITO渐变波导(13)、第二搭载ITO弯曲波导(12)呈对称布置。

4.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,第一搭载ITO矩形波导(10)、第一搭载ITO渐变波导(9)、第一搭载ITO弯曲波导(8)结构相同,由硅材料层(18)、ITO层(17)、金属层(15)由下至上依次连接组成;所述第二搭载ITO矩形波导(14)、第二搭载ITO渐变波导(13)、第二搭载ITO弯曲波导(12)和耦合区等离子激元波导(11)结构相同,由硅材料层(18)、ITO层(17)、第二二氧化硅层(16)、金属层(15)由下至上依次连接组成;所述总线波导由硅材料层(18)组成。

5.根据权利要求4所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,所述金属层(15)采用的材料为金。

6.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,所述总线波导和副线波导的上包层均为空气包层,下包层均为第一二氧化硅层(20);总线波导和副线波导均置于下包层上方。

7.根据权利要求1所述的一种基于ITO定向耦合器的硅电光调制器,其特征在于,当ITO层(17)处于低载流子浓度状态下时,光信号在耦合区发生强耦合,光信号主要耦合到搭载ITO的副线波导中传播;当ITO层(17)处于高载流子浓度状态下,光信号在耦合区发生弱耦合或不发生耦合,光信号主要在总线波导中传播;从而使得从输出硅波导(7)输出的光信号光场强度发生变化,实现对输入光信号的调制。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911001240.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top