[发明专利]一种显示面板的制作方法有效
申请号: | 201911005052.7 | 申请日: | 2019-10-22 |
公开(公告)号: | CN110854067B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 谭敏力;刘健 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L27/12 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 制作方法 | ||
本发明提供一种显示面板的制作方法,该方法包括:在衬底基板上制作绝缘层;其中所述绝缘层包括第一子部和第二子部;所述第一子部与预设区域的位置对应;在所述第一子部上制作光阻部;在所述光阻部上形成三维纳米结构;在所述三维纳米结构和所述第二子部上制作功能层;在所述三维纳米结构对应的功能层上喷洒剥离液,以将所述光阻部和所述光阻部上的功能层去除。本发明的显示面板的制作方法,能够提高剥离效率和剥离效果。
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板的制作方法。
【背景技术】
现有的显示面板主要采用掩膜板工艺进行膜层的图案化。通常在底板需要开孔和上方膜层需要剥离的区域制作光阻层,然后再将光阻层(PR)和需要剥离的上方膜层剥离。
现有的剥离方式是利用负型光阻层、双层光阻层或者光阻层/绝缘层形成切角(Undercut),之后再喷洒剥离液,以将光阻层和需要剥离的上方膜层剥离。如图1至3所示,现有的显示面板包括底板11、具有切角的中间膜层以及上方膜层14,中间膜层包括一层/两层光阻层12或者包括绝缘层13和光阻层12,然而该方法对光阻层的材料要求比较苛刻,且由于制程过程中采用光刻或真空沉积工艺,因此剥离时间长,且剥离液无法大面积地渗入,导致上方膜层容易产生残留,从而降低了剥离效果和剥离效率。
因此,有必要提供一种显示面板的制作方法,以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种显示面板的制作方法,能够提高剥离效果和剥离效率。
为解决上述技术问题,本发明提供一种显示面板的制作方法,包括:
在衬底基板上制作绝缘层;其中所述绝缘层包括第一子部和第二子部;所述第一子部与预设区域的位置对应;
在所述第一子部上制作光阻部;
在所述光阻部上形成三维纳米结构;
在所述三维纳米结构和所述第二子部上制作功能层;
在所述三维纳米结构对应的功能层上喷洒剥离液,以将所述光阻部和所述光阻部上的功能层去除。
本发明的显示面板的制作方法,通过在衬底基板上制作绝缘层;其中所述绝缘层包括第一子部和第二子部;在所述第一子部上制作光阻部;在所述光阻部上形成三维纳米结构;在所述三维纳米结构和所述第二子部上制作功能层;在所述三维纳米结构对应的功能层上喷洒剥离液,以将所述光阻部和所述光阻部上的功能层去除;由于三维纳米结构的结构特性会使功能层无法完全覆盖光阻部,也即两者之间的接触面具有缝隙或者缺口,从而便于剥离液的渗入,增大了剥离液和光阻部之间的接触面积,从而可快速和彻底地对功能层进行剥离,提高了剥离效果和剥离效率。
【附图说明】
图1为现有显示面板的第一种结构示意图;
图2为现有显示面板的第二种结构示意图;
图3为现有显示面板的第三种结构示意图;
图4为本发明显示面板的制作方法的第一步和第二步的结构示意图;
图5为本发明显示面板的制作方法的第三步中第一分步的结构示意图;
图6为本发明显示面板的制作方法的第三步中第二分步的结构示意图;
图7为本发明显示面板的制作方法的第四步的结构示意图;
图8为本发明显示面板的制作方法的第五步中第一分步的结构示意图;
图9为本发明显示面板的制作方法的第五步中第二分步的结构示意图。
图10为本发明显示面板的优选的结构示意图。
【具体实施方式】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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