[发明专利]一种显示面板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201911005052.7 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN110854067B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 谭敏力;刘健 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 制作方法
【说明书】:

发明提供一种显示面板的制作方法,该方法包括:在衬底基板上制作绝缘层;其中所述绝缘层包括第一子部和第二子部;所述第一子部与预设区域的位置对应;在所述第一子部上制作光阻部;在所述光阻部上形成三维纳米结构;在所述三维纳米结构和所述第二子部上制作功能层;在所述三维纳米结构对应的功能层上喷洒剥离液,以将所述光阻部和所述光阻部上的功能层去除。本发明的显示面板的制作方法,能够提高剥离效率和剥离效果。

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板的制作方法。

【背景技术】

现有的显示面板主要采用掩膜板工艺进行膜层的图案化。通常在底板需要开孔和上方膜层需要剥离的区域制作光阻层,然后再将光阻层(PR)和需要剥离的上方膜层剥离。

现有的剥离方式是利用负型光阻层、双层光阻层或者光阻层/绝缘层形成切角(Undercut),之后再喷洒剥离液,以将光阻层和需要剥离的上方膜层剥离。如图1至3所示,现有的显示面板包括底板11、具有切角的中间膜层以及上方膜层14,中间膜层包括一层/两层光阻层12或者包括绝缘层13和光阻层12,然而该方法对光阻层的材料要求比较苛刻,且由于制程过程中采用光刻或真空沉积工艺,因此剥离时间长,且剥离液无法大面积地渗入,导致上方膜层容易产生残留,从而降低了剥离效果和剥离效率。

因此,有必要提供一种显示面板的制作方法,以解决现有技术所存在的问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种显示面板的制作方法,能够提高剥离效果和剥离效率。

为解决上述技术问题,本发明提供一种显示面板的制作方法,包括:

在衬底基板上制作绝缘层;其中所述绝缘层包括第一子部和第二子部;所述第一子部与预设区域的位置对应;

在所述第一子部上制作光阻部;

在所述光阻部上形成三维纳米结构;

在所述三维纳米结构和所述第二子部上制作功能层;

在所述三维纳米结构对应的功能层上喷洒剥离液,以将所述光阻部和所述光阻部上的功能层去除。

本发明的显示面板的制作方法,通过在衬底基板上制作绝缘层;其中所述绝缘层包括第一子部和第二子部;在所述第一子部上制作光阻部;在所述光阻部上形成三维纳米结构;在所述三维纳米结构和所述第二子部上制作功能层;在所述三维纳米结构对应的功能层上喷洒剥离液,以将所述光阻部和所述光阻部上的功能层去除;由于三维纳米结构的结构特性会使功能层无法完全覆盖光阻部,也即两者之间的接触面具有缝隙或者缺口,从而便于剥离液的渗入,增大了剥离液和光阻部之间的接触面积,从而可快速和彻底地对功能层进行剥离,提高了剥离效果和剥离效率。

【附图说明】

图1为现有显示面板的第一种结构示意图;

图2为现有显示面板的第二种结构示意图;

图3为现有显示面板的第三种结构示意图;

图4为本发明显示面板的制作方法的第一步和第二步的结构示意图;

图5为本发明显示面板的制作方法的第三步中第一分步的结构示意图;

图6为本发明显示面板的制作方法的第三步中第二分步的结构示意图;

图7为本发明显示面板的制作方法的第四步的结构示意图;

图8为本发明显示面板的制作方法的第五步中第一分步的结构示意图;

图9为本发明显示面板的制作方法的第五步中第二分步的结构示意图。

图10为本发明显示面板的优选的结构示意图。

【具体实施方式】

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