[发明专利]抛光垫及其制备方法、化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201911006629.6 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN110614580B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 郭宇轩;赵晟佑 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 制备 方法 化学 机械 研磨 设备 | ||
1.一种抛光垫的制备方法，其特征在于，包括：
制备抛光垫过渡结构，所述抛光垫过渡结构形成有多个凹槽，所述多个凹槽的开口位于所述抛光垫过渡结构的同一侧表面；
利用无机纳米粒子填充满所述抛光垫过渡结构的凹槽；
在所述抛光垫过渡结构上浇筑液态聚合物与固化剂的混合物，抽去液态聚合物和所述凹槽内的空气；
将所述抛光垫过渡结构置于高于等于第一温度阈值的环境中，固化后的液态聚合物与所述抛光垫过渡结构组成所述抛光垫；
制备所述抛光垫过渡结构包括：
提供一模具，所述模具包括模具本体和设置在所述模具本体一侧表面上的多个凸起的T型圆盘结构，相邻所述圆盘结构之间形成间隙，所述模具在高于第二温度阈值的环境下能够融化；
利用至少两种不同粒径的无机纳米粒子填充满所述间隙；
在所述模具上浇筑液态聚合物与固化剂的混合物，抽去液态聚合物和所述间隙内的空气；
将所述模具置于低于等于第三温度阈值的环境中，使得液态聚合物固化；
将环境温度升至第二温度阈值之上，所述模具融化，固化后的液态聚合物形成所述抛光垫过渡结构。
2.根据权利要求1所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，利用两种不同粒径的无机纳米粒子填充满所述间隙，所述两种不同粒径的无机纳米粒子中，一种粒径为500nm，另一种粒径为25nm。
3.根据权利要求1所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，所述无机纳米粒子采用二氧化钛纳米粒子或二氧化硅纳米粒子，所述液态聚合物采用聚二甲基硅氧烷PDMS。
4.根据权利要求1所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，所述液态聚合物与所述固化剂的摩尔比为1：10。
5.根据权利要求1所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，
所述第一温度阈值为60℃，所述第二温度阈值为0℃，所述第三温度阈值为0℃。
6.根据权利要求5所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，所述模具采用冰。
7.根据权利要求1所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，所述无机纳米粒子的粒径为25nm。
8.一种抛光垫，其特征在于，采用如权利要求1-7中任一项所述的抛光垫的制备方法制备得到。
9.根据权利要求8所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光垫由聚二甲基硅氧烷PDMS和二氧化硅纳米粒子组成，所述抛光垫的热膨胀系数为40-60ppm/℃。
10.一种化学机械研磨设备，其特征在于，包括如权利要求8或9所述的抛光垫。
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