[发明专利]图像处理方法、装置及电子设备

权利要求书

1.一种图像处理方法，其特征在于，所述方法包括：

获取第一图像与相邻的前一帧图像的帧间残差，得到残差块，所述残差块包括与所述第一图像的多个像素点位置一一对应的多个残差点，每个残差点具有一个残差值；

基于所述残差块，在所述第一图像中确定目标像素区域；

对所述第一图像中的所述目标像素区域进行超分处理，得到超分处理后的目标像素区域；

采用超分处理后的所述前一帧图像中的其他像素区域更新所述第一图像中所述其他像素区域，所述其他像素区域包括所述第一图像中除所述目标像素区域之外的像素区域；

其中，超分处理后的所述第一图像包括所述超分处理后的目标像素区域以及更新后的所述其他像素区域。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述残差块，在所述第一图像中确定目标像素区域，包括：

基于所述残差块，生成掩膜图形，所述掩膜图形包括多个第一掩膜点，所述多个第一掩膜点与所述残差块中的多个目标残差点的位置一一对应；

将所述掩膜图形和所述第一图像输入超分模型，通过所述超分模型将所述第一图像中，与所述多个第一掩膜点中每个掩膜点位置对应的像素点所在区域，确定为所述目标像素区域。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述第一图像中的所述目标像素区域进行超分处理，得到超分处理后的目标像素区域，包括：

通过所述超分模型对所述第一图像中的所述目标像素区域进行超分处理，得到超分处理后的目标像素区域。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述残差块，在所述第一图像中确定目标像素区域，包括：

基于所述残差块，生成掩膜图形，所述掩膜图形包括多个第一掩膜点，多个第一掩膜点与所述残差块中的多个目标残差点的位置一一对应；

将所述第一图像中，与所述多个第一掩膜点中每个掩膜点位置对应的像素点所在区域，确定为所述目标像素区域。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述对所述第一图像中的所述目标像素区域进行超分处理，得到超分处理后的目标像素区域，包括：

将所述第一图像中的目标像素区域输入超分模型，通过所述超分模型对所述第一图像中的目标像素区域进行超分处理，得到超分处理后的目标像素区域。

6.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述基于所述残差块，生成掩膜图形，包括：

基于所述残差块，生成包括多个掩膜点的初始掩膜图形，所述多个掩膜点与所述第一图像的多个像素点位置一一对应，所述多个掩膜点包括所述多个第一掩膜点和多个第二掩膜点；

将所述初始掩膜图形中所述第一掩膜点的掩膜值赋值为第一值，将所述掩膜图形中所述第二掩膜点的掩膜值赋值为第二值，得到所述掩膜图形，所述第一值和所述第二值不同；

所述将所述第一图像中，与所述多个第一掩膜点位置对应的像素点，确定为所述目标像素区域，包括：

遍历所述掩膜图形中的掩膜点，在所述第一图像中，将掩膜值为第一值的掩膜点所对应的像素点，确定为所述目标像素区域。

7.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述基于所述残差块，生成掩膜图形，包括：

对所述残差块进行形态学变化处理，得到所述掩膜图形，所述形态学变化处理包括二值化处理和对二值化后的所述残差块中的第一掩膜点进行膨胀处理，所述超分模型包括至少一个卷积层，所述膨胀处理的核与所述超分模型最后一个卷积层的感受野的尺寸相同。