[发明专利]掩模板及彩膜基板的制备方法

权利要求书

1.一种掩模板，用于彩膜基板的制程，所述彩膜基板包括色阻，其特征在于，所述掩模板包括与所述色阻对应的图案部，所述图案部包括对应于所述色阻显示区的第一区域和对应于所述色阻非显示区的第二区域；

其中，所述图案部上设置有至少一条缝隙，使透过所述缝隙的光线发生衍射，所述缝隙位于所述第二区域。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述色阻的材料为正性光刻胶，所述图案部为遮光部分。

3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述缝隙包括相对设置的边界线，所述边界线为直线状或锯齿状。

4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述缝隙的数量为两条，两条所述缝隙关于所述图案部的中心线对称设置。

5.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基板；

采用第一掩模板在所述基板上形成图案化的第一色阻；在所述基板上形成图案化的第二色阻；在所述基板上形成图案化的第三色阻；所述图案化的第一色阻、第二色阻和第三色阻形成色阻层；所述第一掩模板包括与所述第一色阻对应的第一图案部，所述第一图案部包括对应于所述第一色阻显示区的第一区域和对应于所述第一色阻非显示区的第二区域，所述第一图案部上设置有至少一条第一缝隙，使透过所述第一缝隙的光线发生衍射，所述第一缝隙位于所述第二区域；

在所述色阻层上形成平坦层。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一色阻的材料为正性光刻胶，所述第一图案部为遮光部分。

7.根据权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一缝隙包括相对设置的第一边界线，所述第一边界线为直线状或锯齿状。

8.根据权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一缝隙的数量为两个，两条所述第一缝隙关于所述第一图案部的中心线对称设置。

9.根据权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，采用第二掩模板在所述基板上形成图案化的第二色阻；

所述第二掩模板包括与所述第二色阻对应的第二图案部，所述第二图案部包括对应于所述第二色阻显示区的第三区域和对应于所述第二色阻非显示区的第四区域，所述第二图案部上设置有至少一条第二缝隙，使透过所述第二缝隙的光线发生衍射；所述第二缝隙位于所述第四区域，且至少一条所述第二缝隙位于靠近所述第一色阻的一侧。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第二缝隙包括相对设置的第二边界线，所述第二边界线为直线状或锯齿状。