[发明专利]一种反射式CVD钻石微波腔装置在审
| 申请号： | 201911010438.7 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112695291A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 刘宏明;蒋荣方;王骏;赵芬霞 | 申请（专利权）人： | 湖州中芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/511 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 刘晓明 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反射 cvd 钻石 微波 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种反射式CVD钻石微波腔装置，其特征在于：包括空心圆柱体、密封盖、密封盖支柱，金属外腔，所述密封盖对称设于空心圆柱体上下两端，所述密封盖支撑柱设于空心圆柱体内，所述密封盖支撑柱两端分别设于密封盖上，所述金属外腔设于空心圆柱体外侧，所述空心圆柱体材质为CVD钻石材质。
2.根据权利要求1所述的一种反射式CVD钻石微波腔装置，其特征在于：所述密封盖支撑柱材质为特氟龙材料。
3.根据权利要求1所述的一种反射式CVD钻石微波腔装置，其特征在于：所述金属外腔材质为铜材。
4.根据权利要求1所述的一种反射式CVD钻石微波腔装置，其特征在于：所述金属外腔内表面镀了一层银。
5.根据权利要求1所述的一种反射式CVD钻石微波腔装置，其特征在于：所述金属外腔中部设有电磁信号接入端和电磁信号输出端，所述电磁信号接入端与电磁信号输出端对称设置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
