[发明专利]基于氧化镍/β-三氧化二镓异质结的紫外探测器及其制备方法有效
申请号: | 201911011267.X | 申请日: | 2019-10-23 |
公开(公告)号: | CN110729376B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 唐利斌;项金钟;贾梦涵;姬荣斌 | 申请(专利权)人: | 昆明物理研究所 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/18 |
代理公司: | 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 | 代理人: | 和琳 |
地址: | 650000 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 氧化 二镓异质结 紫外 探测器 及其 制备 方法 | ||
1.基于NiO/β-Ga2O3异质结的紫外探测器,其特征在于从下至上依次是衬底、阳极层、p-NiO薄膜层、n-β-Ga2O3薄膜层,以及阴极层;衬底和阳极层构成ITO玻璃衬底、阴极层为Al电极;该探测器的制备方法具体如下:
S1,清洁衬底:衬底清洗,干燥,以去除表面污垢,增加薄膜的均匀性和附着性;
S2,p-NiO薄膜层溅射:衬底放入磁控溅射设备中,待真空度抽至低于8.0×10-4Pa后,设定溅射压强为0.4-0.6Pa,溅射功率为200W,预溅射5min后计时溅射55-65min,制备p-NiO薄膜层,薄膜厚度80-120nm;
S3,n-β-Ga2O3薄膜层溅射:按S3步骤溅射操作,设定溅射压强为0.6-0.8Pa,溅射功率为200W,溅射时间为55-65min,制备n-β-Ga2O3薄膜层,薄膜厚度70-110nm;
S4,蒸镀阴极层:在n-β-Ga2O3表面使用掩模板蒸镀阴极层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的