[发明专利]转移系统

说明书

本公开实施例提供一种转移系统。转移系统包括一真空腔室、一轴以及一真空旋转馈通。真空腔室耦接至一处理腔室。轴耦接至一滚珠螺杆，且滚珠螺杆以及轴配置在真空腔室中。真空旋转馈通包括一磁流体轴封，以提供一高真空密封，其中真空旋转馈通配置成通过真空腔室的一第一端并耦接至滚珠螺杆，以对滚珠螺杆提供一旋转运动。

技术领域

本公开实施例涉及离子注入系统，尤其涉及离子注入系统中的转移系统。

背景技术

可通过使用由转移系统移动的法拉第杯监测离子束来执行离子注入系统的处理腔室中的半导体基板的剂测量量。这样的工艺通常遭遇在基板的扫描期间的处理腔室中的真空损失有关的问题，特别是在附接至转移系统的真空轴封(vacuum seal)处。在某一位置由真空损失导致离子束轮廓(profile)的改变作为参考值，以校正在注入期间在同样位置处的离子束。然而，在离子注入期间，在同样位置可能产生不同的真空损失，导致补偿错误并造成低产率。因此，需要降低在法拉第杯系统的运行期间引入至处理腔室的真空损失，以防止补偿错误并增进产率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种转移系统，以解决上述至少一个问题。

根据本公开的一些实施例，提供一种转移系统。转移系统包括一真空腔室、一轴以及一真空旋转馈通。真空腔室耦接至一处理腔室。轴耦接至一滚珠螺杆，且滚珠螺杆以及轴配置在真空腔室中。真空旋转馈通包括一磁流体轴封，以提供一高真空密封，其中真空旋转馈通配置成通过真空腔室的一第一端并耦接至滚珠螺杆，以对滚珠螺杆提供一旋转运动。

根据本公开的一些实施例，提供一种离子注入系统。离子注入系统包括一转移系统以及一离子束测量系统。转移系统包括一真空腔室、一轴以及一真空旋转馈通。真空腔室耦接至一处理腔室。轴耦接至一滚珠螺杆，且滚珠螺杆以及轴配置在真空腔室中。真空旋转馈通包括一磁流体轴封，以提供一高真空密封，其中真空旋转馈通配置成通过真空腔室的一第一端并耦接至滚珠螺杆，以对滚珠螺杆提供一旋转运动。离子束测量系统包括一法拉第杯，在真空腔室的一第二端耦接至轴。

根据本公开的一些实施例，提供一种执行离子注入工艺的方法。前述方法包括：使用耦接至一转移系统的一法拉第杯测量一离子束，以将在一处理腔室中的法拉第杯转移至多个对应位置；决定在对应位置的多个补偿剂量水平；以及使用耦接至转移系统的法拉第杯执行具有一即时剂量监测的一离子注入工艺。转移系统包括一真空腔室、一轴以及一真空旋转馈通，真空腔室耦接至处理腔室，轴耦接至一滚珠螺杆，且滚珠螺杆以及轴配置在真空腔室中，真空旋转馈通包括一磁流体轴封，以提供一高真空密封，其中真空旋转馈通配置成通过真空腔室的一第一端并耦接至滚珠螺杆，以对滚珠螺杆提供一旋转运动。

附图说明

当阅读所附附图时，从以下的详细描述能最佳理解本公开的各方面。应注意的是，各种特征并不一定按照比例绘制。事实上，可能任意地放大或缩小各种特征的尺寸，以做清楚的说明。

图1示出根据本公开的一些实施例的一转移系统的示例性方块图。

图2示出根据本公开的一些实施例的具有转移系统的一离子注入系统的方块图。

图3示出根据本公开的一些实施例的一方法的流程图，此方法使用转移系统测量离子束轮廓并执行离子注入。

附图标记如下：

100、208 转移系统

102 真空腔室

104 滚珠螺杆

106 轴

108 真空旋转馈通/磁流体真空轴封

110 耦接机构