[发明专利]一种用于提高自发光显示器件发光亮度均匀性的方法

说明书

本发明公开了一种用于提高自发光显示器件发光亮度均匀性的方法，其特征是在自发光显示器件像素的表面涂覆一层卤化银或类似卤化银的感光膜层，通过特定时间、特定驱动状态的像素自发光曝光，显影、定影和薄膜固化等工艺，在自发光显示器件像素的表面形成一层类似黑白底片的滤光层，能够对应每一个像素单元有一个不同深浅颜色即不同透光率的滤光单元。可以大幅度的提高自发光显示器件的发光亮度均匀性。

技术领域

本发明涉及一种液晶显示技术，尤其是一种OLED、硅基OLED、硅基LED、MINI-LED、MICRO-LED自发光显示器件技术，具体地说是一种用于提高自发光显示器件发光亮度均匀性的方法。

背景技术

OLED、硅基OLED、硅基LED、MINI-LED、MICRO-LED等自发光显示器件作为显示领域的最新研究成果已经得到飞速的发展，从个人穿戴设备、手持设备、工业控制到特殊场所显示应用范围正在逐步推广。而目前这类显示器件因为都是电流驱动型的自发光显示器件，在制作工艺中存在的大量不一致的工艺尺寸误差、材料发光效率均匀性、涂覆及封装带来的阻抗特性不一致等等都会导致在同样的电压驱动下不同像素发光亮度存在较大的偏差。为了降低这个亮度偏差，提高不同像素的亮度均匀性，通常需要特殊的工艺技术或电路驱动方面的特殊设计，对于像素尺寸较大（100微米级别）采用激光或其他微加工工艺修正。对于像素尺寸极小的器件如硅基OLED、硅基LED、MICRO-LED，一般采用电路驱动补偿及调整方式，对同样驱动电压下驱动电流大的像素，通过内置软件限制电流。或者通过外部测试的方法，采集每一个像素在同样驱动特征下的亮度数据，再通过内置软件设置每一个像素的电流比例值。以上这些方法需要投入较大的工艺成本和电路硬件、软件资源，器件制造生产成本都很大。

发明内容

本发明的目的是针对现有的提高显示均匀性的方法均是通过驱动电路和软件控制加以实现，因此存在结构复杂，成本高的问题，发明一种用于提高自发光显示器件发光亮度均匀性的方法，它通过在自发光显示器件像素的表面涂覆一层卤化银或类似功能材料的感光膜层的薄膜工艺，通过设定时间、设定驱动状态的像素自发光曝光，显影、定影和薄膜固化等过程，在自发光显示器件像素的表面形成一层类似黑白底片的滤光层，能够对应每一个像素单元有一个不同深浅颜色即不同透光率的滤光单元。可以提高自发光显示器件的发光亮度均匀性。

本发明的技术方案是：

一种用于提高自发光显示器件发光亮度均匀性的方法，其特征是在自发光显示器件像素的表面设计类似黑白底片的光学薄膜，即在显示器件像素的表面涂覆一层感光膜层，通过显示器件像素自发光的过程感光曝光，用黑白底片显影、定影的方法在像素的外表面形成一层光学薄膜。

在自发光显示器件像素的表面涂覆一层卤化银或类似卤化银的感光膜层，通过设定时间、设定驱动状态显示器件像素自发光的过程感光曝光，对于每一个像素能够对感光膜层发出不超过饱和值照射光通量。用黑白底片显影、定影及固化的工艺方法在像素的表面形成光学薄膜。能够对应自发光显示器件每一个像素单元形成一个不同深浅颜色即不同透光率的滤光单元。采用的卤化银或类似功能材料的感光膜层只能够对630nm以上的红光以外的可见光敏感，在受到光照射后分解出金属银，并能够根据每一个像素单元不同的照射光通量解析出不同比例的金属银。显影的工艺过程是将未充分曝光的卤化银或类似功能材料溶解去除，留下已经解析出的银粒子；定影及固化工艺是去除银粒子以外的感光材料，并形成保护薄膜。每一个像素单元不同的银粒子溶度对应不同的光透过率。

通过调节感光层卤化银或类似功能材料的含量比例，使光学膜层的总厚度在微米级别，一般需要控制在像素点尺寸的20%以下，与像素发光层的表面距离也应该在同一尺寸级别。光学膜层的厚度相对像素的厚度或与像素发光层的表面距离较大的话会导致显示器件的方向性较差，在不同的方向亮度及其均匀性会出现较大的偏差。