[发明专利]一种反蛋白石结构铀酰离子印迹复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种反蛋白石结构铀酰离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

S01，将玻璃纤维素微孔滤膜浸入含质量分数5%~7%表面改性剂的乙醇溶液中，在温度70~80℃反应6~8h后，取出自然晾干，得到改性基膜；

S02，将单分散SiO₂微球超声分散于乙醇中，在玻璃基片上垂直自组装，制备蛋白石结构SiO₂胶体晶体薄膜；

S03，按质量比1:（6~8）:（0.3~1.2）:（0.3~0.8）称取铀酰模板盐、功能单体、交联剂和光引发剂，在氮气保护下，暗处搅拌混合6-8h，得预聚体；

S04，将S01所得改性基膜牢固夹于两片S02中所得蛋白石结构SiO₂胶体晶体薄膜中间，得到三明治状叠层，再将该三明治状叠层垂直插入含有S03中所得预聚体的密闭容器中，重复抽气及鼓入氮气8~10次，取出三明治状叠层，置于365nm紫外光下照射15~20 min，再先后浸入体积分数8%~12%的HF水溶液和5%~10%的稀盐酸溶液中，剥离玻璃基片后，用去离子水冲洗，真空干燥，得到反蛋白石结构铀酰离子印迹复合膜；

步骤S01所述的表面改性剂为γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三（β-甲氧基乙氧基）硅烷中的一种；

步骤S02所述的SiO₂微球直径为200~520 nm；

步骤S03所述的铀酰模板盐为醋酸铀酰、硝酸铀酰中的一种；

步骤S03所述的功能单体为N, N’-二甲基丙烯酰胺、乙烯基吡咯烷酮、4-（4-二甲氨基苯乙烯）喹啉、1-异丙烯基-2-苯并咪唑酮中的一种或多种组合；

步骤S03所述的交联剂为二乙烯基苯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、N, N’-亚甲基双丙烯酰胺中的一种；

步骤S03所述的光引发剂为1-羟基环已基苯基甲酮、2-羟基-甲基苯基丙烷-1-酮中的一种。