[发明专利]调节阀门装置在审
申请号: | 201911017387.0 | 申请日: | 2019-10-24 |
公开(公告)号: | CN111350834A | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 金根浩;秋成云 | 申请(专利权)人: | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 |
主分类号: | F16K3/02 | 分类号: | F16K3/02;F16K3/314;F16K3/316 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 彭辉剑;龚慧惠 |
地址: | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调节 阀门 装置 | ||
本发明提供一种调节阀结构及操作方法。所述调节阀结构包括:盖体机构,所述盖体机构包括:具有中央开口的阀门;多个叶片相对于所述中央开口的中心在一开启位置和一关闭位置之间可对称地移动;以及多个杆构件相应地连接所述多个叶片,所述多个杆构件中的每一者以垂直于所述阀门的切线方向设置;以及连接到所述盖体机构的控制器。
技术领域
本公开总体上涉及调节阀装置,更具体地,涉及用于控制处理室中的排气流的均匀性的调节阀。
本申请要求2018年12月20日提交的美国临时专利申请No.62782369的优先权,该临时专利申请通过引用结合在此并且作为说明书的一部分。
背景技术
在半导体器件制造设备中,摆锤阀通常被设于装备有真空泵系统的制造设备的腔室中来控制气压状态。典型的摆动阀具有圆盘形状。当摆动阀的柄部被沿某个方向(例如,顺时针方向)旋转时,摆动阀可以如同月亮改变月相一般地被电动机以特定速度开启。藉此,处理室中的气体可以由真空泵系统通过摆动阀从处理腔室中排出。然而,因为摆动阀的开口区域的形状不是中心对称的,所以在摆动阀的操作期间可能在腔室中引起气流的紊流。紊流的产生量可能与摆动阀的操作速度呈比例关系。这种气体湍流可能导致制程上问题,例如处理室中部件角度的不对准,并且负面地影响处理制程均匀性,从而导致不期望的缺陷。此外,如果将打开摆动阀的速度放慢,则制程处理时间将会增加,从而影响制造效率。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种调节阀结构及操作方法,以解决上述技术问题。
一种调节阀结构,其包括:盖体机构,所述盖体机构包括:具有中央开口的阀门;多个叶片相对于所述中央开口的中心在一开启位置和一关闭位置之间可对称地移动;以及多个杆构件相应地连接所述多个叶片,所述多个杆构件中的每一者以垂直于所述阀门的切线方向设置;以及连接到所述盖体机构的控制器。
一种操作装置的方法,所述方法包括:测量处理室中的压力;根据所量测的压力调整调节阀的盖体机构,其中所述盖体机构包括:阀门,其具有中央开口;多个叶片相对于所述中央开口的中心在一开启位置和一关闭位置之间可对称地移动;多个杆构件相应地连接到所述多个叶片,所述多个杆构件中的每一者以垂直于所述阀门的切线方向设置;以及控制器,用于控制所述盖体机构;以及当所述盖体机构呈开启状态时,通过排气系统排出处理室中的处理气体。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1示出了根据本公开的一些实施例的装置示意图。
图2示出了根据本公开的一些实施例的盖体机构的平面示意图。
图3示出了根据本公开的一些实施例的相邻叶片的横截面示意图。
图4A示出了根据本公开的一些实施例的盖体机构的横截面示意图。
图4B示出了根据本公开的一些实施例的盖体机构的另一横截面示意图。
图5A-5D示出了根据本公开的一些实施例的致动器。
图6示出了根据本公开的一些实施例的装置操作方法的流程图。
然而,要注意的是,随附图式仅说明本案之示范性实施态样并因此不被视为限制本案的范围,因为本案可承认其他等效实施态样。
主要组件符号说明
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