[发明专利]载置台装置、光刻装置及物品的制造方法在审

专利信息
申请号: 201911020122.6 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN111123658A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 盐村祐辅;今井敬次郎;内田雄己;高柳雅欣 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 刘杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 载置台 装置 光刻 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种载置台装置,是使基板移动的载置台装置,其特征在于,

该载置台装置包括:

第1载置台,保持所述基板;

第2载置台,以所述第1载置台能够旋转的方式安装该第1载置台,并且具有保持旋转角被调整了的所述第1载置台的保持机构,该第2载置台能够移动;

检测部,检测所述第1载置台相对于所述第2载置台的位置偏移;以及

控制部,进行控制,以在使所述保持机构开始保持所述第1载置台之后,进行在所述保持机构的保持力达到阈值之前使所述第2载置台移动的处理,

所述控制部基于所述检测部的检测结果,进行所述处理时的所述第2载置台的变形所引起的所述第2载置台的姿势误差的推定,并基于该推定,控制所述第2载置台的姿势,以降低所述姿势误差。

2.根据权利要求1所述的载置台装置,其特征在于,

所述控制部基于表示使所述第1载置台相对于所述第2载置台产生任意的位置偏移时的所述第2载置台的姿势的误差成分的信息,推定所述姿势误差。

3.根据权利要求2所述的载置台装置,其特征在于,

所述控制部基于所述信息,通过将由所述检测部检测出的所述位置偏移与所述任意的位置偏移的比率乘以所述误差成分,推定所述姿势误差。

4.根据权利要求1所述的载置台装置,其特征在于,

所述阈值被设定为即使使所述第2载置台移动也能够将所述第1载置台相对于所述第2载置台的位置偏移收纳在容许范围内的保持力的值。

5.根据权利要求1所述的载置台装置,其特征在于,

所述载置台装置包括:在所述保持机构的保持力达到所述阈值之后使所述第2载置台移动的第1模式;以及在所述保持机构的保持力达到所述阈值之前使所述第2载置台移动的第2模式。

6.根据权利要求1所述的载置台装置,其特征在于,

该载置台装置还包括测量部,该测量部测量所述第2载置台上的多个部位的位置,

所述控制部基于所述测量部的测量结果,控制所述第2载置台的姿势。

7.根据权利要求1所述的载置台装置,其特征在于,

所述检测部配置于所述第1载置台与所述第2载置台之间。

8.一种光刻装置,是在基板上形成图案的光刻装置,其特征在于,

该光刻装置包括使基板移动的载置台装置,

所述载置台装置包括:

第1载置台,保持所述基板;

第2载置台,以所述第1载置台能够旋转的方式安装该第1载置台,并且具有保持旋转角被调整了的所述第1载置台的保持机构,该第2载置台能够移动;

检测部,检测所述第1载置台相对于所述第2载置台的位置偏移;以及

控制部,进行控制,以在使所述保持机构开始保持所述第1载置台之后,进行在所述保持机构的保持力达到阈值之前使所述第2载置台移动的处理,

所述控制部基于所述检测部的检测结果,进行所述处理时的所述第2载置台的变形所引起的所述第2载置台的姿势误差的推定,并基于该推定,控制所述第2载置台的姿势,以降低所述姿势误差。

9.一种物品的制造方法,其特征在于,

由经过了使用光刻装置在基板上形成图案的形成工序和对在所述形成工序中形成有图案的所述基板进行加工的加工工序的所述基板制造物品,

所述光刻装置包括使基板移动的载置台装置,

所述载置台装置包括:

第1载置台,保持所述基板;

第2载置台,以所述第1载置台能够旋转的方式安装该第1载置台,并且具有保持旋转角被调整了的所述第1载置台的保持机构,该第2载置台能够移动;

检测部,检测所述第1载置台相对于所述第2载置台的位置偏移;以及

控制部,进行控制,以在使所述保持机构开始保持所述第1载置台之后,进行在所述保持机构的保持力达到阈值之前使所述第2载置台移动的处理,

所述控制部基于所述检测部的检测结果,进行所述处理时的所述第2载置台的变形所引起的所述第2载置台的姿势误差的推定,并基于该推定,控制所述第2载置台的姿势,以降低所述姿势误差。

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