[发明专利]一种痕量化合物测量装置及其测量方法

权利要求书

1.一种痕量化合物测量装置，其特征在于，包括：电极A、电极B、离子源、阵列检测器和绝缘材料；

电极A和电极B相对设置，其中电极A表面设置有离子引入狭缝，电极B表面设有与离子引入狭缝相垂直的离子引出狭缝；离子源设置于电极A外侧；阵列检测器设置于电极B外侧；

绝缘材料形状为中空的矩形，电极A和电极B分别由绝缘材料的上壁和下壁包裹，绝缘材料、电极A和电极B形成离子分离通道；离子分离通道前后设气体引入和气体引出接口；

所述离子分离通道中，离子由离子引入狭缝引入，经由离子分离通道后在电场引导下经离子引出狭缝引出在阵列检测器上得到信号；

离子源为真空紫外光电离源，电离源能量为10.6eV，气体温度为25℃，离子源气体为干燥空气，样品载气流速为100mL.min^-1；

所述绝缘材料为陶瓷板，陶瓷板内部为离子分离通道，离子分离通道前端与后端为氮气引入和引出接口，通过PEEK接口与离子分离通道入口相连，离子分离通道的宽度为1.5mm，氮气流速为6000mL.min^-1，电极A和电极B之间施加100V-500V直流电压；电极B外侧设置有阵列检测器，阵列检测器为线性离子电荷耦合器件IonCCD，检测单元数量为2126个，检测器单元的长度为1500um，呈直线排列；电极B的电压为50V，电极B与阵列检测器之间由一0.1mm厚的特氟龙绝缘片隔离，特氟龙绝缘片的规格与电极B相同。

2.根据权利要求1所述的一种痕量化合物测量装置，其特征在于：所述电极A和电极B的材质为金属，其厚度为0.05mm～5mm之间，电极A和电极B之间距离为1～5mm；电极A的离子引入狭缝宽度为0.05～1mm，长度为1mm～2mm；电极B的离子引出狭缝为0.2～1mm，长度为20～50mm；电极A狭缝与电极B狭缝之间的投影距离为1～5mm；A B两电极之间施加电流电压，电压的极性可为正极性或负极性，电压差可根据需要进行调节，或在一定范围内进行扫描。

3.根据权利要求1所述的一种痕量化合物测量装置，其特征在于：离子引出狭缝与一根碟环式的迁移管相连，以进一步增强分离效果；电极B的位置叠加设置一片电极C，电极B和电极C之间通过四氟薄膜隔开。

4.根据权利要求1所述的一种痕量化合物测量装置的测量方法，其特征在于：固定电极A和电极B之间的电压及所述离子分离通道中气体的流速，从阵列检测器不同的检测单元之间取得检测信号以获得一维离子迁移谱图，或固定离子分离通道中气体流速，对电极A和电极B之间的电压进行扫描，扫描电压、检测单元编号及检测信号强度可构成一个二维检测谱图。