[发明专利]用于压印的结构印模、装置以及方法在审

专利信息
申请号: 201911023472.8 申请日: 2012-09-06
公开(公告)号: CN110908238A 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: P.菲舍尔;G.克赖因德尔;J.哈明;C.塔纳;C.舍恩 申请(专利权)人: EV集团E·索尔纳有限责任公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 郭帆扬;陈浩然
地址: 奥地利圣*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 压印 结构 印模 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种置于基板上的压印的材料,所述材料包括:

背对所述基板的压印面;和

压印在所述压印面上的压印图案,所述压印图案包括多个限定所述压印面的结构。

2.根据权利要求1所述的材料,其中,所述结构是纳米结构,各个所述纳米结构具有小于100nm的尺寸。

3.根据权利要求2所述的材料,其中,各个所述纳米结构的尺寸小于10nm。

4.根据权利要求2所述的材料,其中,各个所述纳米结构的尺寸小于1nm。

5.根据权利要求1所述的材料,其中,所述结构是在所述压印面中的压制的结构。

6.一种压印的主体,其包括:

压印材料,所述材料包括压印面,所述压印面具有在其中形成的压印图案,所述压印图案包括多个限定所述压印面的结构。

7.根据权利要求6所述的主体,其中,所述结构是纳米结构,各个所述纳米结构具有小于100nm的尺寸。

8.根据权利要求7所述的主体,其中,各个所述纳米结构的尺寸小于10nm。

9.根据权利要求7所述的主体,其中,各个所述纳米结构的尺寸小于1nm。

10.根据权利要求6所述的主体,其中,所述结构是在所述压印面中的压制的结构。

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